Gebraucht AIXTRON Crius 31x2 #293587449 zu verkaufen

Hersteller
AIXTRON
Modell
Crius 31x2
ID: 293587449
Weinlese: 2008
MOCVD System 2008 vintage.
AIXTRON Crius 31x2 ist ein Reaktor für eine Vielzahl von industriellen Anwendungen, einschließlich Halbleiterherstellung, Sputtern und Dünnschichtabscheidung, und Ätzverfahren. AIXTRON CRIUS 31 X 2 ist mit innovativer Kühltechnologie ausgestattet, die Prozesse mit geringen thermischen Budgets ermöglicht. Der Reaktor ist mit zwei unabhängigen Prozesskammern ausgestattet, die entweder elektrisch oder mit Ein- oder Zweigasleitungen betrieben werden können, um mehrere Gase zuzuführen oder LPCVD- und PECVD-Prozesse zu erleichtern. Die Prozesskammern sind in ein Vakuumgefäß aus Edelstahl eingeschlossen, das mit einem primären Gatevalve, einer zweistufigen Vakuumeinrichtung, einer flexiblen Gassteuerung und einer Diffusionspumpe mit variabler Geschwindigkeit ausgestattet ist. Darüber hinaus verfügt Crius 31x2 über eine eigene Advanced Throttle Supervision (ATS) -Einheit zur präzisen Steuerung von Prozessen. Diese Maschine liefert detaillierte Rückmeldungen zu Kammertemperaturen, Temperaturen innerhalb der Probenhalter und Substratheiz- und Kühlleistung. CRIUS 31 X 2 hat eine Vielzahl von Funktionen, die es zu einer wünschenswerten Wahl für viele Benutzer machen. Zum Beispiel verfügt es über ein innovatives hochdichtes, mehrzoniges Massendatenwerkzeug mit der Fähigkeit, die Zonekonfiguration auf Wafer-by-Wafer-Basis zu ändern. Die reaktive Plasmaquelle verfügt über eine integrierte Quench- und Dimmer-Steuerung, die die Quellenleistung aktiv an die Anforderungen verschiedener Prozesse anpassen kann. AIXTRON Crius 31x2 verfügt außerdem über einen Gleichförmigkeits-Scanner, einen programmierbaren Hubstift und Indexer-Mechanismus sowie eine große Bandbreite an Suszeptoren. Insgesamt ist AIXTRON CRIUS 31 X 2 ein zuverlässiger und vielseitiger Reaktor. Es verfügt über eine Vielzahl von Funktionen, so dass es für eine Reihe von Anwendungen und Prozessen geeignet. Seine innovative Kühltechnologie ermöglicht niedrige thermische Budgetprozesse und bietet den Anwendern eine detaillierte Rückmeldung der Temperatur- und Substratheizung und der Kühlleistung. Mit diesen Vorteilen ist Crius 31x2 eine ausgezeichnete Wahl für Produktions-, Sputter- und Ätzprozesse.
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