Gebraucht AIXTRON Crius 31x2 #293587450 zu verkaufen

AIXTRON Crius 31x2 ist eine plasmaverbesserte chemische Dampfabscheidung (PECVD), die für das Wachstum von Dünnschichtmaterialien für die Halbleiterindustrie entwickelt wurde. Das System umfasst eine 31 cm x 2 cm große Prozesskammer mit modernster Technologie für das Filmwachstum, darunter eine neu konzipierte HF/DC-Magnetronquelle, zwei Quarzquarzduschköpfe, zwei Prozessgaseinlässe, zwei Prozessdruckregelventile, eine softwaregetriebene Plasmasteuerung und einen Prozessgasanalysator. Die PECVD-Maschine wurde entwickelt, um eine genaue Kontrolle und Regelung der Abscheidungsparameter wie Temperatur, Prozessgaskonzentrationen, Duschkopfleistung und chemische Zusammensetzung der Abscheidungszone bereitzustellen. Es ist auch in der Lage, Pro-Filterspezies zu wählen, um die Prozesseffizienz zu verbessern. Die HF/DC-Magnetronquelle ist ein fortschrittliches Design, das die Merkmale einer herkömmlichen HF-Quelle mit einer Gleichstromquelle kombiniert und eine verbesserte Fähigkeit zur Steuerung der Ionisation der Reaktantgase bietet. Das Werkzeug verwendet sowohl einen Quarzduschkopf als auch einen Quarztiegel für den Filmbildungsprozess. Diese Komponenten erhalten die Homogenität der Folie, indem sie eine gleichmäßige Kombination von Abscheidungsparametern in der Plasmazone ermöglichen. Es hat auch zwei Prozessgaseinlässe und zwei Prozessdruckregelventile, um eine präzise Steuerung des Gasstroms zu ermöglichen. Darüber hinaus umfasst die Anlage ein softwaregesteuertes Plasmasteuerungsmodell, das Steuerungssysteme für Prozessgas und Temperaturregelung umfasst. Die thermisch bearbeitete Prozesskammer verfügt über ein fortschrittliches Design, das optimiert ist, um Partikelverunreinigungen zu minimieren und eine Umgebung zu schaffen, die für die Bildung hochwertiger Folien geeignet ist. Die Kombination aus Prozessparametern, einer automatisierten Überwachungseinrichtung, der HF/DC-Magnetronquelle und einem Quarztiegel sorgt dafür, dass das System eine optimale Prozesssteuerung und eine extrem gleichmäßige Filmwachstumszone bietet. Das Gerät bietet auch umfangreiche Sicherheitsmerkmale, darunter eine automatisierte Kammerspülmaschine, ein Schwefeldioxid-Steuerwerkzeug zur Begrenzung der Gasverschmutzung und eine Bodenfehlerunterbrecheranlage zum Schutz vor elektrischen Gefahren. Zusätzlich ist das Modell mit einem Prozessgasanalysator ausgestattet, um die Zusammensetzung der Abscheidungszone zu überwachen und eine homogene Umgebung für das Filmwachstum zu gewährleisten. AIXTRON CRIUS 31 X 2 Ausrüstung bietet eine zuverlässige und genaue Plattform für PECVD Wachstum von verschiedenen Arten von Dünnschichtmaterialien, perfekt für eine Vielzahl von Fertigungsanforderungen. Mit seinem hocheffizienten Design bietet es eine unübertroffene Leistung für die Herstellung hochwertiger Halbleitermaterialien und sichert höchste Qualitäts- und Zuverlässigkeitsstandards für die Halbleiterbauelementeherstellung.