Gebraucht AIXTRON Crius 31x2" #293587451 zu verkaufen
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AIXTRON Crius 31x2 ist ein Reaktor der nächsten Generation, der für den Anbau dünner Filme und Nanostrukturen in der Halbleiterindustrie entwickelt wurde. Der Crius 31x2 verwendet MOCVD (Metal-Organic Chemical Vapor Deposition), um Schichten von Materialien abzuscheiden, die speziell für Halbleiteranwendungen entwickelt wurden. Dieser Reaktor arbeitet bei einer Wellenlänge von 312nm und einer Substrattemperatur bis 1000 ° C. Die Mehrfachquellen von Ge-, Si-Verbindungen und P-Verbindungen werden in einer zentralen Reaktionskammer verdampft und können unabhängig voneinander gesteuert werden. Auf diese Weise können Materialschichten in Höhe, Dichte und Dicke auf Basis von Benutzerspezifikationen manipuliert werden. Der Crius 31x2 Reaktor verfügt zudem über eine programmierbare Quarzzellen-Modulheizeinrichtung, die eine effizientere Erwärmung der Substratmaterialien auf die vorgegebene Temperatur ermöglicht. Dieses System hilft, die Erwärmungszeit der Reaktionskammer zu reduzieren, was zu kürzeren Verarbeitungszyklen und verbesserten Prozessausbeuten führt. Zusätzlich helfen Kühleinheit und temperaturgesteuerte Ventilatoren, die Temperatur der Reaktionskammer konsistent zu halten, wodurch Schwankungen im Abscheidungsprozess minimiert werden. Der Crius 31x2 ist mit einer fortschrittlichen HF-Stromversorgung und Rückkopplungsmaschine ausgestattet, um die Plasmagleichförmigkeit und Abscheiderate zu optimieren. Das Niederdruck-MOCVD-Werkzeug verfügt über eine Lagerung und Versorgung der Reaktanten und kann für einen kontinuierlichen Durchfluss oder für Volumina bis 38,4 ml/min programmiert werden. Im Reaktor ist eine moderne Windows-basierte Software enthalten, die die Überwachung, Datenerfassung und Echtzeitsteuerung mehrerer Prozessparameter ermöglicht. Der Crius 31x2 Reaktor hat eine maximale Belastung von 31 1-Zoll-Substraten und eine Erweiterungskammer zur Aufnahme größerer Substrate. Dieser Reaktor hat eine Leistungsaufnahme von 3kW, Abmessungen von 500mm H x 610mm B x 1800mm L und ein Gewicht von 350 kg. Der Crius 31x2 ist eine zuverlässige, effiziente und kostengünstige Wahl für den Anbau von Halbleiterdünnschichten und Nanostrukturen.
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