Gebraucht AIXTRON Crius 31x2" #9186411 zu verkaufen

AIXTRON Crius 31x2 ist ein High-Tech-Reaktor zur chemischen Dampfabscheidung (CVD), der für die ultrahohe Durchsatzabscheidung und Oberflächenkonditionierung von Materialien entwickelt wurde. Mit einer großen erwärmten Zone mit 2,5 "Durchmesser bietet der 31x2 eine überlegene Temperaturgleichmäßigkeit und eine gleichmäßige Wärmeverteilung von Filmen und heterogenen Oberflächen. Damit eignet sich der Reaktor ideal zur Oberflächenmodifizierung für fortgeschrittene Materialien wie Graphen und Nanowire-Verbundwerkstoffe. Der Crius 31x2 verwendet ein effizientes, tieftemperaturunterstütztes CVD-Verfahren (PA-CVD), das die Abscheidung von Metall- und Metalloxidfilmen unter effizienten, niedrigen Druck- und Temperaturregimes ermöglicht. Dieses Verfahren hat eine verbesserte Effizienz, eine außergewöhnliche Gleichmäßigkeit der Foliendicke sowie kontrollierbare und reproduzierbare Oberflächen gezeigt. Ein weiterer Vorteil des Crius 31x2 ist der hohe Durchsatz des Verfahrens gegenüber anderen herkömmlichen thermischen Abscheidungsprozessen. Durch die Verwendung von Plasma ist der Reaktor in der Lage, Filme 3 bis 5 mal schneller als thermische Prozesse abzuscheiden. Der Crius 31x2 Reaktor verfügt über einen Rapid Thermal Annealer (RTA) zur Oberflächenbehandlung von Materialien. Die RTA ist in die Kammer integriert, um eine schnelle thermische Glühung über einen weiten Temperaturbereich durchzuführen. Dies ermöglicht eine verbesserte Oberflächenaktivierung von Materialien, die Entfernung von Verunreinigungen und die Ermöglichung einer Oberflächenrestrukturierung. Der RTA ist auch in der Lage, thermische Nachbehandlungen durchzuführen. Der 31x2 ist zudem mit unabhängigen Gaseinspritzsystemen zur präzisen, gleichmäßigen Steuerung der Gasströme ausgestattet. Dadurch können die Prozessgase engmaschig überwacht und kontrolliert werden, was den Anwendern eine hohe Kontrolle der CVD-Reaktionen ermöglicht. Die Bequemlichkeit dieses Merkmals gewährleistet, dass die Bedingungen und Parameter des Abscheideprozesses sorgfältig und genau angepasst werden können, um gewünschte Produkte und Materialien herzustellen. Der Crius 31x2 bietet auch ein spezialisiertes katalytisches Plasmaveraschungssystem sowie einen spezialisierten, hochtemperaturgekühlten Tiegel zur Unterstützung ultrahoher Abscheidungsraten. Dieses System ist voll digital, mit einer vereinfachten Benutzeroberfläche für einfache Steuerung und Bedienung. AIXTRON Crius 31x2 ist ein leistungsstarker, intuitiver und effizienter CVD-Prozess, der für die Abscheidung fortschrittlicher Materialien angepasst ist. Seine einzigartigen Eigenschaften und Technologien verfügen über einen verbesserten Durchsatz, Einheitlichkeit und Reproduzierbarkeit, was eine verbesserte Materialoberflächenqualität ermöglicht.