Gebraucht AIXTRON Crius 31x2" #9283178 zu verkaufen

AIXTRON Crius 31x2 Reaktor ist ein anspruchsvolles und hocheffizientes Werkzeug zur Herstellung von Dünnschichtmaterialien. Es nutzt die Elektronenzyklotronresonanz (ECR) -Plasmatechnologie, um eine leistungsstarke Quelle ionisierender Elektronen zu schaffen, die zur Reaktion von Atomen und Molekülen in der Dünnschichtumgebung verwendet werden kann. Diese Technologie ermöglicht die schnelle Herstellung und Abscheidung hochwertiger dünner Folien in einem umweltfreundlichen Prozess. Der AIXTRONCrius 31x2 Reaktor besteht aus drei Hauptteilen: (1) der ECR-Plasmaquelle, (2) der Reaktorkammer und (3) dem Substrathalter. Die ECR-Plasmaquelle besteht aus einer Reihe magnetisch isolierter permanentmagnetischer Elektroden, die mit Hochfrequenzquellen (RF) betrieben werden, um eine energiereiche Plasmaumgebung innerhalb des Reaktors zu erzeugen. Die Plasmaquelle ist so ausgelegt, dass sie eine konstante gleichmäßige Leistungsdichteverteilung über die Reaktorkammer aufrechterhält, was einen maximalen Wirkungsgrad bei der Dünnschichtabscheidung ermöglicht. Die Reaktorkammer selbst besteht aus einer Reihe von verbundenen - und hochleitfähigen - Kupferspulen, die eine gleichmäßige Temperatur über die Innenwände der Kammer gewährleisten. Ein an der Kammer angebrachtes Vakuumsystem ermöglicht die Einleitung von zur Dünnschichtabscheidung notwendigen Gasen und die Konditionierung der Kammerwände für ein optimales Dünnschichtwachstum. Der Substrathalter ist speziell für die Aufnahme einer Vielzahl von Dünnschichtsubstraten wie Glas, Quarz und Silizium ausgelegt. Die Substrate werden dann durch die Magnetspulen gefädelt und der intensiven Plasmaumgebung ausgesetzt. Der AIXTRON Crius 31x2 Reaktor ist für verschiedene Abscheideprozesse programmiert, je nach Material und Materialzusammensetzung. Dieser Reaktor verwendet eine Niederdrucksputtertechnik, um Metall, Halbleiter oder isolierende Dünnschichtsubstrate abzuscheiden. Dies geschieht, indem ein Inertgas in die Kammer eingeleitet wird und mit einem Zielmaterial reagieren kann, um geladene Partikel zu erzeugen, die sich auf dem Dünnschichtmaterial ablagern. Dieses Verfahren ist hocheffizient und liefert höchste Folienqualität und Gleichmäßigkeit in den unterschiedlichsten Anwendungsbereichen. AIXTRON Crius 31x2 Reaktor ist auch in der Lage, andere komplexere Prozesse wie reaktives Ionenstrahlätzen durchzuführen, die die Oberflächenqualität des Zielmaterials verbessern und seine Haftung erhöhen können. Darüber hinaus verwendet der AIXTRON Crius 31x2 Reaktor eine Reihe von Rückkopplungssensoren, um optimale Bedingungen für eine schnelle und zuverlässige Dünnschichtabscheidung zu gewährleisten. Damit ist der AIXTRON Crius 31x2 Reaktor das ideale Werkzeug für Anlagen, die eine effiziente Dünnschichtproduktion für viele verschiedene Anwendungen benötigen.