Gebraucht AIXTRON Crius 31x2" #9300899 zu verkaufen

AIXTRON Crius 31x2 ist ein randdefinierter EFG-Reaktor zur epitaktischen Abscheidung von halbleitenden Materialien. Es ist eine hohe Durchsatz, kostengünstige Abscheideplattform und ist für Produktions- und Forschungsanwendungen konzipiert. AIXTRON Crius 31x2 Reaktor ist mit einem doppelseitigen Waferlader ausgestattet, der bis zu 150 mm (6 Zoll) Wafergrößen handhaben kann, für einen verbesserten Waferdurchsatz. Es kann auch bis zu acht Wafer pro Seite handhaben, was kurze Zykluszeiten ermöglicht. AIXTRON Crius 31x2 ist mit einer mikrowellenunterstützten Abscheidung (MWAD) für die Plasmaerzeugung ausgestattet. Dies gewährleistet ein hochreaktives, energiereiches, tief eindringendes Plasmafeld, das hohe Abscheidungsraten und überlegene Filme ermöglicht. Das effiziente MWAD-System ermöglicht AIXTRON Crius 31x2 einen effizienten und kostengünstigen Abscheidevorgang. Es ist in der Lage, hochwertige epitaktische Schichten mit guter Gleichmäßigkeit und ausgezeichneter Schrittabdeckung aus Qualitätssubstraten herzustellen. Die EFG-Quell- und Substrathalterbaugruppen sind für eine einfache Anpassung an spezifische Kundenanforderungen konzipiert. Die Quellenhalter verwenden HF-Antennen für optimierte Prozessparameter während der Abscheidung. Die EFG-Quelle kann manuell für eine präzise Verarbeitung und Feinabstimmung eingestellt werden. Die Substrathalter weisen zur gleichmäßigen Erwärmung des Substrats eine achtgliedrige, dreizonige Zielanordnung auf. Eine Abgasanlage mit einstellbarer Geschwindigkeit sorgt für optimale Druckbedingungen und regelbare Umgebung. AIXTRON leistungsfähige Prozesssteuerungssoftware bietet eine benutzerfreundliche Schnittstelle für die einfache Einrichtung und Überwachung der Maschine. Der Bediener kann Parameter wie Gasdurchflussraten, Leistungsstufen, Substrattemperatur und Atmosphärendruck einstellen. Das Tool liefert Echtzeit-Feedback zur Auswertung und Optimierung des epitaktischen Abscheidungsprozesses. AIXTRON Crius 31x2 ist eine zuverlässige und effiziente Abscheideplattform zur Herstellung fortschrittlicher Dünnschichtstrukturen. Der effiziente HF-gesteigerte Abscheideprozess dieser Plattform macht ihn zu einer idealen und kostengünstigen Lösung für Industrie- und Forschungsanwendungen. Es ist ein effizientes Werkzeug zur Herstellung von hochwertigen epitaktischen Folien mit Gleichmäßigkeit und hervorragender Schrittabdeckung.