Gebraucht AIXTRON Crius 31x2" #9353178 zu verkaufen

AIXTRON Crius 31x2 ist ein metall-organischer chemischer Dampfabscheidungsreaktor (MOCVD). Es ist ein weit verbreitetes Werkzeug für die industrielle Produktion von hochwertigen optoelektronischen Materialien, wie Leuchtdioden (LEDs) und Laserstrukturen. Der Crius 31x2 ist in der Lage, bis zu zwei verschiedene III-V-Materialstrukturen gleichzeitig abzuscheiden, was eine einfache Waferbearbeitung komplexer mehrschichtiger Heterostrukturen ermöglicht. Der Reaktor weist mehrere unterschiedliche Komponenten auf, darunter die Lastschließkammer, die Diffusionskammer und die Reaktionskammer. Die Lastsperrkammer dient dazu, Substrate, wie GaAs-Substrate, in die Diffusionskammer zu überführen. Die Diffusionskammer ist ein Gefäß, mit dem Substrate allmählich vorgewärmt werden, bevor sie in die Reaktionskammer überführt werden. Die Reaktionskammer ist die primäre Arbeitsumgebung für die Reaktoren. Es handelt sich um ein Quarzreaktionsrohr mit einer Zweizonentemperaturregelung, die für bis zu zwei unterschiedliche Materialprozesse einstellbar ist. Der Crius 31x2 ist mit In-situ-Messtechnik ausgestattet, die die Fähigkeit beinhaltet, Filmdicke, Staubpartikel und andere relevante Parameter zerstörungsfrei zu messen. Dies ermöglicht die Anpassung von Prozessen an spezifische Materialeigenschaften oder die Sicherstellung einer zeiteffizienten Massenproduktion. Darüber hinaus bezieht sich die „31x2“ Nomenklatur des Crius auf die Anzahl der unabhängigen Reaktionsräume (IRS), die sie hat: Mit zwei IRS kann der Crius zwei separate Reaktionen gleichzeitig hinterlegen. Der Crius 31x2 bietet seinen Anwendern zudem zuverlässige reproduzierbare Ergebnisse. Es bietet hochoptimierte, automatisierte Rezepte für schnelles Wachstum von Zielmaterialien, die Schicht für Schicht gesteuert werden. Die Prozesskammer des Crius 31x2 ist mit einem speziellen Gasversorgungskrümmer und HF-Generator ausgestattet, wodurch die Flexibilität des Gasflusses und der Prozessbedingungen erhöht wird. Der Reaktor bietet zudem eine ausgezeichnete Temperaturgleichförmigkeit mit einem Temperaturbereich von -60 ° C bis 700 ° C. Insgesamt ist AIXTRON Crius 31x2 ein ausgezeichneter, zuverlässiger MOCVD-Reaktor für den Einsatz in der industriellen Produktion von optischen Halbleiter- und Laserkomponenten. Es bietet eine beispiellose Geschwindigkeit und Präzision für die mehrschichtige Heterostruktur-Abscheidung sowie eine robuste automatisierte Prozesssteuerung für reproduzierbare und zuverlässige Ergebnisse.