Gebraucht AIXTRON Crius 31x2" #9353181 zu verkaufen

AIXTRON Crius 31x2 ist ein Zweikammer-Metalorganic Chemical Vapor Deposition (MOCVD) Reaktor zur Herstellung von Halbleiter- und Photovoltaikmaterialien. Es besteht aus zwei metalorganischen CVD-Kammern, die mit einer gemeinsamen Basiseinheit verbunden sind. Die beiden CVD-Kammern sollen die Herstellung homogener Dünnschichten und das Abscheiden hochwertiger Epitaxieschichten erleichtern. Die erste Kammer, die Prozesskammer, dient als Produktionskammer für Materialien wie Galliumarsenid (GaAs), Aluminiumgalliumarsenid (AlGaAs), Galliumaluminiumarsenid (GaAlAs), Aluminiumarsenid (AlAs) und Indiumphosphid (InP). Innerhalb dieser Kammer können Prozesse wie homogene Dünnschichtabscheidung und höherwertige epitaktische Schichtabscheidung durchgeführt werden. Eine Besonderheit dieser Kammer ist die HF-Plasmaquelle, die hilft, die Wachstumsrate und die stöchiometrische Reinheit des Films zu steuern. Die zweite Kammer, die Backkammer, dient der Vorbereitung des Substrats zur Weiterverarbeitung. Diese Kammer hilft, die Oberflächenoxidschicht in der Probe zu reduzieren, was höhere Wachstumsraten und verbesserte Materialeigenschaften ermöglicht. Die Probentemperatur beim Backen kann einfach durch Ändern der Einstellungen des programmierbaren Temperaturreglers manipuliert werden. Darüber hinaus arbeitet diese Kammer in Kombination mit einer beheizten, gefilterten Abgasspülvorrichtung, um eine Kontamination in der Kammer zu minimieren. Ein Vorwärmer ist mit beiden CVD-Kammern verbunden, die dafür verantwortlich sind, die Substrattemperatur schnell auf gewünschte Werte anzuheben und die Wärme in beiden Kammern gleichmäßig zu verteilen. Der Vorwärmer ist mit einem programmierbaren Temperaturregler verbunden, so dass die Temperatur genau überwacht und gesteuert werden kann. Die Basiseinheit von AIXTRON Crius 31x2 enthält die Hauptstromversorgung, die Vakuumpumpen, das Gasmischsystem und die Elektronik. Die Vakuumpumpen dienen zum Auspumpen von Gas, das auf beide Kammern reagiert und Ablagerungen bildet. Die Gasmischeinheit erleichtert die Zugabe von Gasen in der Aufbereitungskammer. Die Elektronik steuert die gesamte Maschine und ist für die Überwachung und Steuerung der Prozessparameter wie Temperatur, Druck und Gasstrom verantwortlich. AIXTRON Crius 31x2 bietet eine zuverlässige Mehrkammerlösung für die Herstellung von Halbleiter- und Photovoltaikmaterialien. Es ist mit der neuesten Technologie für eine schnelle und präzise Temperaturmanipulation ausgestattet und bietet eine saubere Umgebung mit Hilfe eines beheizten und gefilterten Abgasspülwerkzeugs. Die Integration eines Vorwärmers für schnelle und gleichmäßige Wärmeübertragung sorgt für eine qualitativ hochwertige Abscheidung von dünnen Schichten und epitaktischen Schichten.