Gebraucht AIXTRON Crius 31x2" #9353182 zu verkaufen

AIXTRON Crius 31x2 ist ein hochentwickelter Reaktor für die fortschrittliche Dünnschichtverarbeitung. Es verwendet fortschrittliche Technologie, um fortschrittliche Leistung, überlegene Prozesskontrolle und die höchsten Qualitätsergebnisse für eine Vielzahl von Anwendungen zu bieten. Der Crius 31x2 nutzt die neuesten MOCVD (Metal Organics Chemical Vapor Deposition) und Oxidationstechnologien, die eine beispiellose Kontrolle der Abscheidungsrate, Wachstumsrate, Schichtdicke und Dotierstoffkonzentration ermöglichen - für Dünnschichtanwendungen. Damit ist er der ideale Reaktor für andere fortgeschrittene Prozesse wie PECVD (Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition), ALD (Atomic Layer Deposition) und CVD (Chemical Vapor Deposition). AIXTRON Crius 31x2 Reaktor ist ein modulares System, so dass zusätzliche Module erworben werden können, um die Gesamtgröße und die Anzahl der möglichen Prozesse zu erweitern. Es bietet eine Vielzahl von Konfigurationsmöglichkeiten sowie mehrere unabhängig steuerbare Kammern für Prozessflexibilität und Wiederholbarkeit. Mit seiner ultraschnellen Abscheiderate ist der Crius 31x2 in der Lage, Abscheideraten von bis zu 28 Nanometern pro Sekunde zu erreichen, und seine unabhängigen Regelkammern bieten sowohl Temperatur- als auch Druckkontrolle. Der Crius 31x2 nutzt auch die AIXTRON proprietäre Plasma Enhanced Layer Mapping (PELM) Technologie, die die Platzierung von Materialien über die gesamte Oberfläche des Wafers mit einer einheitlichen, präzisen Pixelebene Steuerung ermöglicht. Diese Technologie ermöglicht die Abscheidung von Features mit hohem Seitenverhältnis, die Technologien wie fortgeschrittene MOSFET-Transistoren, Hochleistungsspeicher-Bauelemente und mehr ermöglichen. Die große Kammergröße und die schnelle Abscheiderate des Crius 31x2 ermöglichen auch die Abscheidung von Geräten mit 8-Zoll-Wafern. Damit ist der Crius 31x2 die perfekte Wahl für die Abscheidung hocheffizienter und hochfunktionaler elektronischer Geräte wie LEDs, Solarzellen und Anzeigetafeln. Darüber hinaus bietet der Crius 31x2 auch eine breite Palette an Zubehör-Optionen, so dass er die Bedürfnisse jedes Benutzers erfüllen kann. Dies macht es zu einem unglaublich vielseitigen System, das für eine Vielzahl von Anwendungen verwendet werden kann. Alles in allem ist der AIXTRON Crius 31x2 Reaktor ein fortschrittliches, funktionsreiches und zuverlässiges Dünnschichtverarbeitungssystem, das sich ideal für die Verarbeitung einer Vielzahl von Anwendungen eignet. Es bietet überlegene Prozesssteuerung, einheitliche Abscheidung, große Kammergröße und eine breite Palette von Optionen für die Anpassung - so dass es die perfekte Wahl für Forschung und Produktion.