Gebraucht AIXTRON Crius 31x2" #9353183 zu verkaufen

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Hersteller
AIXTRON
Modell
Crius 31x2"
ID: 9353183
Weinlese: 2008
MOCVD System 2008 vintage.
AIXTRON Crius 31x2 Reaktor ist eine leistungsstarke Produktionsanlage für kristalline, Verbundhalbleiter- und LED-Technologien. Es ist in der Lage, eine robuste Prozesskontrolle und einheitliche Produktionsergebnisse zu liefern sowie das Wachstum größerer Wafer mit p- und n-Dotierstoffen zu ermöglichen. Der Crius 31x2 ist ideal für SiGE- und InGaN-basierte Leistungsgeräte, großflächige Substrate wie OLEDs und dotierende Multi-Epi-Schichten. AIXTRON Crius 31x2 Reaktor ist eine Einwafer, nicht konforme, magnetisch begrenzte PECVD-Kammer. Es kombiniert HF-Plasmaaktivierung und ein effizientes Hochfrequenz-Induktionsheizsystem in einer Einheit. Das Gerät ist in der Lage, bei bis zu 1000 ° C zu arbeiten und eine extrem niedrige thermische Belastung Abscheidung zu liefern, die entscheidend für die Verbesserung der epitaktischen Ausbeute und Kristallinität ist. Das Gerät ist auch mit einer Maschine für optische Messfähigkeiten ausgestattet, um hochgleichmäßige Geräteschichten zu erzeugen und die Kammerbedingungen zur Prozessoptimierung und -steuerung zu überwachen. Der 31x2 nutzt 31 vordefinierte Standardrezepte für verschiedene Prozesse, die auf die spezifischen Anwendungen zugeschnitten sind. Diese Rezepte werden auf dem Gerät vorinstalliert und können an die spezifischen Prozessanforderungen des Benutzers angepasst werden. Das Gerät ist mit Dual-HF-Quellen mit der Möglichkeit der parallelen, seriellen oder geteilten Hochfrequenzeinfluss ausgestattet. Diese dynamische Konfiguration ermöglicht eine hochpräzise Verarbeitung und Gleichmäßigkeit über Schichten hinweg. Der Crius 31x2 ist ein robustes Produktionswerkzeug, das für Anwendungen wie Power-SiGe-Geräte, LED und OLED-Wafer sowie Verbundhalbleiterfolien eingesetzt werden kann. Seine integrierten Optimierungsmöglichkeiten machen es zu einer idealen Wahl für die Herstellung von Verbundhalbleitern mit gleichmäßigen Schichten und minimaler thermischer Beanspruchung. Hoher Durchsatz und Prozesskontrolle ermöglichen eine schnelle Herstellung von Folienschichten mit präziser Steuerung und maximaler Betriebszeit.
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