Gebraucht AIXTRON Crius I #293586746 zu verkaufen

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Hersteller
AIXTRON
Modell
Crius I
ID: 293586746
MOCVD system, parts system Does not include reactor chamber.
AIXTRON Crius I ist ein Hochdurchsatz-Epitaxiereaktor zur Abscheidung von dünnen Filmen. Der Reaktor ist mit einer induktiv gekoppelten Plasmaquelle, die einen Sauerstoff-Ionen-Strahl für die Substratätzung liefert, und einer Elektronenzyklotronresonanz (ECR) -Plasmaquelle, die hochdichte Plasmen für das Schichtwachstum erzeugt, ausgestattet. Das Design von Crius I ermöglicht ein größeres Prozessfenster und eine verbesserte Gleichmäßigkeit von dünnen Folien. AIXTRON Crius I Reaktor bietet Anwendern eine leistungsstarke Dünnschichtabscheidung für eine breite Palette von Substraten und Materialien. Das flexible Prozessfenster und der hohe Durchsatz von Crius I ermöglichen es Anwendern, anspruchsvolle Substrate und Materialien wie Solarzellen, LEDs und Halbleiter unterzubringen. Die fortschrittliche Plasmaquelle und die überlegene Materialeinheitlichkeit von AIXTRON Crius I bieten eine außergewöhnliche Dünnschichtqualität. Crius I verfügt über eine Loadlock-Ausrüstung, mit der der Benutzer Wafer schnell laden und entladen kann. Die Wafer werden durch Ultrahochvakuum und Stickstoff ihrer Umgebung ausgesetzt, wodurch ein hochwertiges Vakuum in der Prozesskammer aufrechterhalten werden kann. Darüber hinaus ermöglichen die 5 Zoll segmentierten Spulen eine genaue Positionierung der Plasma- und Ätzstrahlen, wodurch gleichmäßige dünne Filme bereitgestellt werden. Darüber hinaus ist AIXTRON Crius I mit einem hochauflösenden Endpunktdetektionssystem ausgestattet, um präzise Endpunkte und verbesserte Schichtgleichförmigkeit zu gewährleisten. Diese erweiterte Einheit bietet Benutzern zuverlässige und wiederholbare Ergebnisse. Darüber hinaus verfügt Crius I über eine integrierte Selbstdiagnose-Maschine, die eine schnelle Fehlerbehebung ermöglicht und es dem Benutzer ermöglicht, den Status des Reaktors leicht zu überprüfen. Insgesamt ist AIXTRON Crius I ein leistungsstarkes und zuverlässiges Dünnschichtabscheidungswerkzeug. Mit seiner Hochleistungs-Plasmaquelle, seiner hervorragenden Dünnschichtqualität und der zuverlässigen Endpunkterkennung bietet Crius I Anwendern ein flexibles Prozessfenster und eine außergewöhnliche Einheitlichkeit.
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