Gebraucht AIXTRON Crius I #9065474 zu verkaufen

AIXTRON Crius I
Hersteller
AIXTRON
Modell
Crius I
ID: 9065474
Weinlese: 2008
31x2" GaN System (1) EpiTT Mikron M680 Thermal baths: (2) RM 25S and (6) RM 6S Source Configuration TMGa-1 TMGa-2 TMAl-1 Cp2Mg-1 Cp2Mg-2 TMIn-1 TMIn-2 TEGa-1 CBr4-1 DTBSi source lines 2008 vintage.
AIXTRON Crius I ist ein fortschrittlicher, hocheffizienter, horizontal konfigurierter, metall-organischer chemischer Dampfabscheidungsreaktor (MOCVD) zur Herstellung großflächiger, zusammengesetzter Halbleitermaterialschichten für den Einsatz in optoelektronischen, mikroelektronischen und leistungselektronischen Anwendungen. Crius I verfügt über eine robuste Verarbeitungstechnologie, die auf der Verwendung von erhitzten Vorläufern zur Herstellung hochwertiger Schichten aus einer Vielzahl von Verbindungen basiert. Die hocheffiziente Vorstufenlieferung und Liefergleichmäßigkeit, kombiniert mit der Prozesssteuerung, ermöglicht überlegene Schichtqualität und Wiederholbarkeit. AIXTRON Crius I umfasst ein Laserablationsverfahren zur Reinigung von vorbeschichteten Zielmaterialien und ein Drehschieberventil für den Substrattransport, das einen umweltfreien Transfer innerhalb des Reaktors gewährleistet. Bei Hochtemperaturbetrieb bis 1000 ° C ist Crius I in der Lage, Schichten mit fortschrittlichen Materialeigenschaften und Geräteeigenschaften herzustellen. AIXTRON Crius I verwendet ein hochpräzises Futter für Substratunterstützung, das eine gleichmäßige und konsistente Waferhaftung während des Abscheidungsprozesses gewährleistet und höhere Abscheidungsraten und verbesserte Schichteigenschaften als bei anderen Abscheidungsverfahren ermöglicht. Der geschlossene Gasfluss, die Druck- und Temperaturregelung sowie das computergesteuerte Abscheidesteuersystem ermöglichen eine wiederholbare, effiziente Prozesswiederholbarkeit und eine robuste Wafer/Substrat-Leistung. Es ist auch mit einem fortschrittlichen Vorläuferliefersystem ausgestattet, das thermische Wellen verwendet, um Vorläufer für außergewöhnlich hohe Materialgleichförmigkeit während des Abscheidungsprozesses genau freizusetzen und abzulegen. Crius I ist ein ideales Werkzeug zur schnellen und präzisen Herstellung einer breiten Palette von 2D- und 3D-Halbleiterstrukturen und -Bauelementen. Seine ausgeklügelten Prozessüberwachungs- und Steuerungssysteme erleichtern die Entwicklung neuer Materialien und Gerätestrukturen mit überlegenen Eigenschaften für eine breite Palette von Elektronik und Optoelektronik und bieten eine Komplettlösung für die Herstellung von Halbleitermaterialien und -bauelementen der nächsten Generation.
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