Gebraucht AIXTRON Crius I #9065476 zu verkaufen

AIXTRON Crius I ist ein CVD-Ätzreaktor, der für eine breite Palette von industriellen und akademischen F & E-Anwendungen entwickelt wurde. Dieser innovative Reaktor unterstützt Verfahren wie Epitaxie, polykristalline Siliziumabscheidung, feuerfeste Metallabscheidung und Dotierung dünner Filme. Crius I besteht aus einer Quarzprozesskammer, einem HF-Generator, einer In-situ-Gasförderanlage, einem Vakuumpumpsystem und einem fortschrittlichen CVI-Controller. Die Quarzkammer von AIXTRON Crius I wurde für maximale Prozessflexibilität konzipiert. Das Innere der Kammer ist mit Quarzkammerabschirmungen ausgestattet, die die Verunreinigung minimieren und die Gleichmäßigkeit des gesamten Prozesses optimieren sollen. Der Aufbau der Kammer gewährleistet eine gleichmäßige Gasverteilung und thermische Gleichmäßigkeit. Weiterhin reduzieren die Kammerschilde die Verdampfungskondensation und erhöhen so die Prozesssicherheit und Wiederholbarkeit. Der HF-Generator ist so ausgelegt, dass er eine einstellbare HF-Stromquelle innerhalb der Kammer bereitstellt. Dies hilft bei der Steuerung von Prozessparametern wie Abscheiderate, Substrattemperatur und Gaszusammensetzung. Der Generator ist mit automatischen ARCON-Einstellungen (automatische rampengesteuerte Ausgabe), einem Optimierer, einem Soft-Start und einem HF-Leistungsmonitor ausgestattet. Die Kombination dieser Elemente bietet eine große Flexibilität bei der Optimierung und Steuerung des Prozesses. Crius I ist mit einer fortschrittlichen In-situ-Gasliefereinheit ausgestattet. Diese Maschine besteht aus vier unabhängigen Ventilblöcken mit jeweils einem eigenen Druckaufnehmer, was eine schnelle und einfache Initialisierung und Einstellung des Prozesses ermöglicht. Das Gasförderwerkzeug ermöglicht eine präzise Steuerung der erforderlichen Gaseingänge, wie Ar, N2, O2, H2, SiH4, PH3, D2 und viele andere Verarbeitungsgase. AIXTRON Crius I ist auch mit einer Vakuumpumpe ausgestattet, die über ein integriertes Ionengetter Variable Frequency Drive (VFD) -basiertes Design verfügt. Dies ermöglicht schnelle Abpumpzeiten und einen höheren Gesamtwirkungsgrad im Vergleich zu mechanischen Pumpen. Der fortschrittliche CVI-Controller von Crius I wurde entwickelt, um das gesamte Modell zu automatisieren und zu integrieren, wodurch Benutzer zahlreiche Parameter im Zusammenhang mit dem Prozess überwachen und steuern können. Dies sorgt für schnelle Anlaufzeiten und konsistentere Prozessergebnisse. Abschließend ist AIXTRON Crius I ein fortschrittlicher Hochleistungs-Ätzreaktor, der überlegene Prozessflexibilität und Zuverlässigkeit bietet. Die Kombination aus Quarz-Prozesskammer, HF-Generator, Gasförderausrüstung, Vakuumpumpsystem und CVI-Controller sorgt für eine effiziente, kostengünstige Ätzlösung für eine Vielzahl von Industrie- und F & E-Anwendungen.