Gebraucht AIXTRON Crius I #9188566 zu verkaufen

AIXTRON Crius I ist ein fortschrittlicher Epitaxiereaktor, der für die Entwicklung und Handhabung von Halbleiter- und optoelektronischen Bauelementen entwickelt wurde. Dieser Reaktor nutzt die seit über zwei Jahrzehnten verfeinerte AIXTRON Flaggschiff Metall-Organische Chemische Dampfabscheidung (MOCVD) Technologie. Crius I ist ein Single-Wafer, Batch-Prozess-Tool, entwickelt für hohen Durchsatz und einfache Skalierbarkeit. AIXTRON Crius I ist ein vertikaler Mehrrohrreaktor mit einer maximalen Rohrdrehzahl von 12.000 U/min und einer vierzehn Positionen umfassenden Lade- und Entladestation. Die Reaktionskammer ist mit AIXTRON Signature Low Vibration Beam (SLV Beam) mit einer 13 ° -Fase ausgestattet. Dies ermöglicht eine homogene und feine Oberflächenbearbeitung der zu bearbeitenden Wafer, wodurch deutlich niedrigere Waferränder entstehen. Darüber hinaus verfügt Crius I über einen Heißwand-Suszeptor, der bei Temperaturen von bis zu 1100 ° C mit außergewöhnlicher Kontrolle und Genauigkeit betrieben werden kann. AIXTRON Crius I ist ein erweiterbares System, das für eine breite Palette von Prozesschemikalien und Dotierstoffgaschemikalien geeignet ist. Sie ist sowohl für Klein- als auch für Großserien geeignet und bietet sowohl eigenständige als auch Clusterkonfigurationen. Der FlexMode ermöglicht es Kunden, die Parameter der Werkzeugreaktorkammer schnell zwischen zwei Programmen zu ändern und zwischenzeitliche Änderungen am Prozessrezept vorzunehmen, ohne lange Eingriffe vornehmen zu müssen. Crius I verwendet proprietäre Prozesssteuerungssoftware (Turbo SoftTune), die eine vereinfachte, menügesteuerte Bedienung ermöglicht. Intelligent Adaptive Control (IAC) hebt dies weiter an, mit aktiver Parametererkennung und Modifikation, die entwickelt wurde, um die richtigen Betriebsparameter für eine bestimmte Anwendung anzupassen. Es kann auch mit AIXTRON-Ofentechnologie nachgerüstet werden, was eine vertikale Integration von Kristallwachstum und Geräteherstellung ermöglicht. Zusammenfassend ist der AIXTRON Crius I Epitaxiereaktor eine fortschrittliche Ressource für die Entwicklung und Herstellung von Halbleiter- und optoelektronischen Bauelementen. Es bietet einen hohen Durchsatz, einen schwingungsarmen Strahl und eine Warmwand-Suszeptor-Technologie, die eine komplizierte Steuerung für empfindliche Prozesse ermöglicht. Ein fortschrittliches Prozessleitsystem, erweiterbare Architektur und flexible Betriebsart machen dies zu einer zuverlässigen und familiären Ressource.