Gebraucht AIXTRON Crius I #9351635 zu verkaufen

AIXTRON Crius I ist ein Plasmatron-Typ thermische chemische Dampfabscheidung (CVD) Reaktor für überlegene Schichtabscheidungsleistung und industrielle Qualitätskontrolle entwickelt. Es eignet sich für eine Vielzahl von Anwendungen und Materialien und eignet sich für Strukturen mit hohem Seitenverhältnis. Crius I wurde entwickelt, um Schichten auf Wafern mit einem Durchmesser von 1 bis 8 Zoll abzulegen. AIXTRON Crius I verwendet HF-Plasma, um das Ausgangsmaterial in ionische und radikale Zustände anzuregen, um eine gleichmäßige Beschichtung bei niedriger Temperatur zu schaffen. Das Ausgangsmaterial wird als verdampftes Gas durch eine Effusionsquelle in die Kammer eingeleitet. Das Gas wird dann durch ein HF-Plasma angeregt, das von der Stromversorgung des Reaktors bereitgestellt wird. Das HF-Plasma dissoziiert das Gas in ionische und radikalische Spezies, die mit dem Ausgangsmaterial zur gewünschten Schicht auf dem Wafer verschmelzen. Dadurch entstehen gleichmäßige Schichten mit ausgezeichneter Stufendeckung und lochfreier Ablagerung. Crius I ist mit einer breiten Palette von Funktionen und Funktionen ausgestattet, darunter ein automatischer Waferlader, Ionenstrahlreinigung, Temperaturregelung und -überwachung, Scrollpumpen, HF-Leistungssteuerung und Mehrzonenmodule. Dies ermöglicht die Schichtabscheidung mit verschiedenen Quellmaterialien und auf mehreren Substraten ohne zusätzliche Ausrüstung. AIXTRON Crius I ist ein fortschrittlicher thermischer CVD-Reaktor für industrielle Anwendungen und Prozessentwicklungen. Es ist ideal für Schichtabscheidung mit hohen Seitenverhältnisstrukturen, hohem Durchsatz und wiederholbaren Prozessparametern von Charge zu Charge. Die breite Palette der von Crius I erlaubten Materialquellen gewährleistet eine verbesserte Zuverlässigkeit und Materialeigenschaften im Vergleich zu herkömmlichen PECVD- oder LPCVD-Prozessen.