Gebraucht AIXTRON Crius II X-L vu #9408188 zu verkaufen

AIXTRON Crius II X-L vu ist ein hochmoderner CVD-Reaktor (Chemical Vapor Deposition), der für das Wachstum großer Graphenstrukturen ausgelegt ist. Es weist eine vertiefte Suszeptor-Konstruktion mit einer variablen flachen Kammerhöhe auf, die eine präzise Steuerung der Dicke und Ausrichtung der Graphenschichten ermöglicht. Crius II X-L vu enthält auch eine CVD-Reinigungsanlage (CCS), die abgeschiedenen Kohlenstoff vom Wafer für bessere Materialqualität und weniger Verunreinigungen reinigt. Darüber hinaus verfügt das System über einen hochpräzisen Waferheizer, der eine gleichmäßige und homogene Erwärmung für eine verbesserte thermische Kontrolle im Wachstumsprozess gewährleistet. AIXTRON Crius II X-L vu ist ein fortschrittlicher CVD-Reaktor, der für hohen Durchsatz und wiederholbares Wachstum von großflächigen Graphenschichten gut geeignet ist. Das Gerät wird über eine proprietäre grafische Benutzeroberfläche (GUI) gesteuert, die eine vollständige Parametrierung jedes Schritts im Wachstumsprozess ermöglicht. Dies umfasst Parameter wie Temperatur, Druck und Durchfluss und ermöglicht eine vollständige Optimierung des Prozesses. Crius II X-L vu beinhaltet auch eine Lastschloßmaschine, die schnelles Be- und Entladen von Wafern ermöglicht. AIXTRON Crius II X-L vu bietet hervorragende Wachstumsbedingungen mit einstellbaren Temperaturen bis 1150 ° C und einstellbarem Druck bis 100 Torr. Dies ermöglicht eine Feinabstimmung der Wachstumsparameter, um die Dicke, Ausrichtung, Größe und Anzahl der gewachsenen Schichten genau zu steuern. Crius II X-L vu ist auch in der Lage, qualitativ hochwertige kontinuierliche Graphenschichten mit hervorragenden elektrischen Eigenschaften herzustellen. Das Tool umfasst eine komplette Reihe unabhängiger Temperaturregler für die Temperaturregelung in jeder Zone sowie eine einzigartige doppelseitige Kammerkonstruktion, die eine beträchtliche Gesamteffizienz bietet. Alle diese Funktionen machen AIXTRON Crius II X-L vu zu einem hervorragenden Werkzeug für das Wachstum von Graphen im großen Maßstab. Das fortschrittliche Design, die hochpräzise Waferheizung und die einstellbare Temperatur, der Druck und die Durchflussrate machen Crius II X-L vu zum perfekten Werkzeug für Forscher und Industrieingenieure, die qualitativ hochwertige Graphenschichten untersuchen und produzieren möchten.