Gebraucht AIXTRON Crius II #293636257 zu verkaufen

AIXTRON Crius II ist ein fortschrittlicher CVD-Reaktor (Chemical Vapor Deposition), der den Anforderungen der Dünnschichttechnologie-Industrie gerecht wird. Es wurde für die Abscheidung von amorphen und kristallinen Materialien entwickelt und zielt auf die Herstellung von Halbleiter-, optischen und Anzeigematerialien ab. Der Reaktor ist in der Lage, gleichmäßige Abscheidungsprozesse zu ermöglichen, die die Multi-Source-Abscheidung komplexer Materialien bei bis zu 200mm Wafern ermöglichen. Dieses Modell von AIXTRON Crius Reaktor verwertet AIXTRON patentiert nicht Gesichtslinienabsetzungstechnologie mit unabhängigen Thermalfeldern, die unabhängig optimiert werden. Dadurch ergibt sich eine exakte Temperaturhomogenität über die gesamte Oberfläche des Substrats, was eine präzisere Abscheidung ermöglicht. Darüber hinaus ist der Reaktor mit überlegener Gasmischung ausgebildet, die eine fortschrittliche Prozesssteuerung und eine höhere Kontrolle der endgültigen Foliendicke ermöglicht. Der Reaktor verfügt über mehrere Hardwarefunktionen, um die Handhabung von Substraten zu verbessern und die Produktivität zu verbessern. Dazu gehören ein Waferlift, Waferkühlung und Gasvorwärmung, Einstecken und Entfernen sowie eine automatisierte Druckregelung. Die extrem kurzen thermischen Zykluszeiten sorgen für schnelle Prozessaufwärm- und -abkühlzeiten. Crius II verfügt zudem über einen zuverlässigen und effizienten Langzeitbetrieb mit niedrigen Betriebs- und Wartungskosten. Darüber hinaus verfügt AIXTRON Crius II über eine Reihe von Funktionen zur Prozess- und Produktivitätsüberwachung. Dazu gehören ein hochauflösendes Endpunktsteuerventil, eine visuelle Anzeigeeinheit, ein Waferkanten- und Kantentemperaturmonitor sowie ein Echtzeit-Wafertemperaturmonitor. Diese helfen dabei, einen schnellen und effizienten Prozess zu gewährleisten und gleichzeitig über jeden Lauf hinweg konsistente Ergebnisse zu erzielen. All diese Funktionen machen Crius II zu einer idealen Lösung für Dünnschichttechnologieunternehmen. Es kann komplexe Halbleiter-, optische und Anzeigematerialien genau verarbeiten, was zu einer höheren Filmqualität und Substratausbeuten führt. Die schnellen thermischen Zykluszeiten und der zuverlässige Betrieb von AIXTRON Crius II machen es zu einer ausgezeichneten Wahl für jedes Produktionsszenario.