Gebraucht AIXTRON Crius II #293659969 zu verkaufen
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ID: 293659969
Wafergröße: 2"-6"
Weinlese: 2010
System, 2"-6"
EDWARDS IXH645H
AFFINITY EWE-08CH-ED44CBD0
Missing parts:
MKS Pressure
THERMO LAUDA RM6S bath
(2) THERMO LAUDA RM25S baths
LAUDA WKL 230/E Chiller
PTS0310 Scroll pump
2010 vintage.
AIXTRON Crius II ist ein horizontaler, Single-Wafer-Batch-Prozessreaktor mit einer maximalen Abscheidungsfläche von bis zu 300mm. Entworfen für die Produktion mit hohem Volumen, bietet es einen hohen Durchsatz, Gleichmäßigkeit und Verwendung von reaktiven Materialien. Crius II verwendet bis zu drei Gasquellen und je nach Anwendungsfall zwei Quellen energetischer Teilchen (Elektronen oder Ionen) für das Wachstum von III-V-Materialien. Das Gerät ist auf Prozessstabilität ausgelegt, mit integrierter Gasverteilungssteuerung, automatisierter Gasanalyse und optischem Pyrometer für die in situ Temperaturregelung. Sie weist eine abgedichtete Kammer zur reaktiven Gasversorgung mit einer Standard-induktiv gekoppelten Plasmaquelle (ICP) zur Plasmasteuerung auf. AIXTRON Crius II verwendet das Plasma Vapor Deposition (PVD) -Verfahren, mit einem optionalen Hybrid-PECVD-Verfahren für ein breiteres Anwendungsspektrum. Das System weist eine Strömungssteuereinheit zur Abgabe von Reaktivgasen sowie Vakuumregelung in der Prozesskammer auf. Dies bietet eine höhere Präzision und Kontrolle von Reaktanden und Verunreinigungen sowie eine bessere Temperaturgleichförmigkeit. Ein prädiktives Modell bietet Rezeptsteuerung in allen Phasen des Prozesses. Eine integrierte Messgasanalysemaschine ermöglicht die proaktive Steuerung von Prozessparametern in jedem Schritt. Der Reaktor kann bis zu drei Quellen energetischer Partikel (Elektronen oder Ionen) handhaben und bietet die Möglichkeit, ihre Synergien für verschiedene Anwendungen zu nutzen. Das Werkzeug ist mit fortschrittlichen Sicherheitsfunktionen ausgestattet, einschließlich integrierter Gas- und Vakuumleckerkennung und einer dreischichtigen Sicherheitsverriegelung. Crius II ist für die Industrialisierung konzipiert und bietet große Losgrößen, schnelle Prozessstabilität und Einheitlichkeit. Es eignet sich für die Herstellung von hochwertigen, kostengünstigen Halbleiter- und photonischen Produkten. Mit seiner hohen Effizienz, optimierten Prozesssteuerung und Automatisierung ist AIXTRON Crius II eine ausgezeichnete Wahl für die Produktion optoelektronischer und nanophotonischer Geräte.
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