Gebraucht AIXTRON Crius II #293831257 zu verkaufen

AIXTRON Crius II ist ein chemischer Aufdampfreaktor (CVD) zur Dünnschichtabscheidung und Halbleiterverarbeitung. Es wurde speziell entwickelt, um hochwertige Folien für fortschrittliche Materialforschung und Geräteherstellung bereitzustellen. Der Reaktor ist ein atmosphärisches Einwafer-Druckgerät, das bis zu zwei Wafer zur Zeit unterstützt. Es bietet einen niedrigen Druck von 0,7 bis 2 Torr und einen hohen Temperaturbereich von 50 bis 500 ° C. Crius II besteht aus mehreren Modulen und Komponenten. Die beiden Primärmodule sind das Lastschloß-System und die Hauptkammer. Die Lastverriegelungseinheit hält die Wafer und bietet Schutz während des Abscheideprozesses. Die Hauptkammer ist eine kreisförmige Kammer, die die Scheiben vor Gasen und Druck schützt. Es verhindert auch Kontaminationen von außen und hält die optimale Abscheidungsumgebung aufrecht. AIXTRON Crius II beinhaltet auch eine Wafertransportmaschine, die Wafer in die Kammer hinein und aus dieser heraus transportiert. Das Wafer-Übergabewerkzeug ist mit einem Förderband und Schiebern ausgestattet, die die Wafer innerhalb der Kammer bewegen. Crius II wird von einem Computer-Asset angetrieben, das den Druck und die Temperatur des Modells sowie den Fluss der Reaktanden und den Zeitpunkt des Abscheidungsprozesses steuert. Es ermöglicht dem Benutzer, die Parameter wie Temperatur und Druck an ihre spezifischen Anforderungen anzupassen. AIXTRON Crius II verfügt auch über eine Automatisierungsausrüstung, mit der Benutzer Einstellungen programmieren können. Dieses Automatisierungssystem reduziert die Komplexität des Abscheidungsprozesses und macht es effizienter. Das fortschrittliche Design von Crius II ist auch für eine effiziente und schnelle Abscheidung konzipiert. Es ist mit fortschrittlicher Abscheidetechnologie ausgestattet, die sicherstellt, dass Folien genau und konsequent abgeschieden werden. Es unterstützt mehrere Abscheidetechnologien und verfügt über eine fortgeschrittene Vorabscheidekammer, die die Wafer zur Abscheidung vorbereitet. Dadurch wird eine gleichmäßige chemische Abscheidung in der Hauptkammer gewährleistet, was zu hochwertigen Folien führt. AIXTRON Crius II wurde ebenfalls benutzerfreundlich gestaltet. Es bietet ein großes Farb-Touchscreen-Display, mit dem Benutzer das Gerät intuitiv von der Vorderseite aus steuern können. Das Bildschirmmenü erleichtert die Steuerung des Geräts und das Einrichten der Abscheidung. Abschließend ist Crius II eine fortschrittliche CVD-Maschine, die hochwertige Folien für fortschrittliche Materialforschung und Geräteherstellung bereitstellt. Es ist für eine effiziente und schnelle Abscheidung konzipiert, und seine benutzerfreundliche Oberfläche macht es einfacher zu bedienen. Mit seiner fortschrittlichen Vorabscheidungskammer, der fortschrittlichen Abscheidetechnologie und dem automatisierten Programmierwerkzeug ist es eine ausgezeichnete Wahl für die Dünnschichtabscheidung.