Gebraucht AIXTRON Crius II #9135739 zu verkaufen

AIXTRON Crius II ist ein überlegener CVD-Reaktor (Chemical Vapor Deposition), der zur Herstellung hochwertiger Schichten aus dünnen Schichten für den Einsatz in Halbleitermaterialien entwickelt wurde. Dieser Reaktor ist mit einer fortschrittlichen Ausrüstung der Advanced Process Control (APC) Technologie ausgestattet, die einen adaptiven Algorithmus verwendet, um Abscheidungsratenschwankungen für eine gleichmäßige Kühlung zu minimieren. Es hat auch ein schnelles und effektives System zur Steuerung der Filmtemperatur. Crius II umfasst zwei vertikale Waferhalter zum Be- und Entladen von Wafersubstraten. Die Hauptkammer ist aus Edelstahl gefertigt und arbeitet aus einer Inertgasumgebung für eine optimale gleichmäßige Abscheidung. Es verfügt außerdem über eine aktive Gasdurchflußregeleinheit, die eine präzise Messung von Reaktivgasgemischen und eine präzise Steuerung der für eine optimale Atomschichtabscheidung notwendigen Gasdurchflußbedingungen ermöglicht. AIXTRON Crius II hat auch eine gepulste Elektronenstrahl-Quellmaschine, die verwendet wird, um lokalisierte Heizung an verschiedenen Stellen auf dem Wafer zu erzeugen, so dass es präzise und gleichmäßig Abscheidung von Filmen. Darüber hinaus verfügt es über einen In-situ-Monitor, mit dem der Benutzer physikalische Eigenschaften wie Stress und elektrische Eigenschaften in Echtzeit messen kann. Um weiterhin hohe Produktionsausbeuten zu gewährleisten, kann Crius II mit zusätzlichen Werkzeugmöglichkeiten ausgestattet werden, einschließlich Autofokus-Ausrichtung und Einkristallofen. Es hat auch eine an Bord ringförmige Strahlfunktion, die hilft, die Kühlgeschwindigkeit zu verbessern und die Filmbewegung zwischen den Schichten zu reduzieren. AIXTRON Crius II wurde entwickelt, um die höchsten Standards der Genauigkeit und Effizienz in der Dünnschichtproduktion zu erfüllen. Die fortschrittliche CVD-Prozesskontrolle liefert überlegene Ergebnisse mit minimalen Temperatur- und Geschwindigkeitsschwankungen. Darüber hinaus bietet seine effiziente Inertgasumgebung eine saubere und gleichmäßige Abscheidungsumgebung. Mit zusätzlichen Funktionen wie autofokussierender Ausrichtung und ringförmigem Strahl kann Crius II dünne Filme höchster Qualität mit minimaler Filmbewegung erzielen. Insgesamt ist dieser effiziente Reaktor ideal für die Dünnschichtabscheidung in der anspruchsvollen Halbleiterindustrie.