Gebraucht AIXTRON Crius II #9272514 zu verkaufen

AIXTRON Crius II ist eine fortschrittliche Abscheideausrüstung, die effiziente und präzise PVD-Prozesse (Physical Vapor Deposition) für eine Vielzahl von Anwendungen bietet. Der Reaktor verwendet eine „suspendierte Substrat“ -Technik, mit der Benutzer ihre Filmabscheidungsmöglichkeiten ändern und verbessern können. Diese Technik hängt das Substratmaterial an beheizten Sockeln an, wodurch eine gleichmäßige Abscheidung über das gesamte Substrat ohne Verklumpung oder Aufbau in bestimmten Bereichen möglich ist. Crius II ist in der Lage, Chargen von Substraten mit einer großen Auswahl an Größen und Formen zu produzieren. AIXTRON Crius II ist mit einem automatisierten Substrathandhabungssystem ausgestattet, mit dem Benutzer die Bewegung der Substrate einstellen und die Ausrichtung des Substrats relativ zur Abscheidungsquelle optimieren können. Dadurch können Anwender präzise und kontrollierbare Dickenänderungen über die Substratoberfläche vornehmen. Darüber hinaus verfügt Crius II über eine innovative Abscheidungsquelle, die ein einzigartiges anodisches Bogenentladungsverfahren verwendet, um hochpräzise Abscheidungsraten zu erzielen und präzise Filmdicken zu erzielen. Der Innenraum von AIXTRON Crius II verfügt über eine fortschrittliche Luftkühleinheit, die ein effizientes Wärmemanagement gewährleistet und den Abscheideprozess bei gleichbleibenden Temperaturen über die gesamte Kammer hält. Zusätzlich zeigt der Raum eine Stickstoffgasstromkraftstoffspritzenmaschine, um eine Horeinheitsatmosphäre für Qualitätsabsetzungsprozesse zu schaffen. Crius II verfügt auch über ein erweitertes Diagnosetool, das einen eingebetteten PC zur Überwachung, Erfassung und Analyse von Daten aus der Reaktorumgebung verwendet. Dies hilft Anwendern, die Wartungskosten zu senken und die Qualität der Substratabscheidung und Beschichtung zu verbessern. AIXTRON Crius II ist in der Lage, Umweltparameter einschließlich Druck, Temperatur und Feuchtigkeit zu überwachen, was hilft, wiederholbare und konsistente Abscheidungsergebnisse zu gewährleisten. Crius II ist ein effizientes und zuverlässiges Depositionssystem, das für eine Vielzahl von Anwendungen geeignet ist. Es bietet Anwendern präzise Abscheideraten und einheitliche Substratbeschichtungsfähigkeiten sowie eine äußerst zuverlässige Umgebung mit hervorragenden Wärmemanagement- und Datenerfassungssystemen. Damit ist AIXTRON Crius II ein idealer Reaktor für hochpräzise Abscheideprozesse, die in einer Vielzahl von Branchen eingesetzt werden.