Gebraucht AIXTRON Crius II #9272517 zu verkaufen

AIXTRON Crius II ist ein fortschrittlicher epitaktischer Wachstumsreaktor für die hochpräzise Herstellung von Halbleiterscheiben. Mit einem innovativen Dual-Source-Abscheideansatz bietet dieses Gerät ein hochgenaues und zuverlässiges Verfahren zur Herstellung fehlerfreier Heterostrukturvorrichtungen. Crius II verwendet eine sechseckige, dreizonige Kammer, die aus einer Eingangsquelle, einer Wachstumszone und einer Substratebene besteht. Die Eingangsquelle kombiniert ein hocheffizientes Gasströmungssystem mit einer optimierten Substratbestrahlungsquelle. Die Gasströmungseinheit dient zur gleichmäßigen Zufuhr von Vorläufermolekülen in die Wachstumszone bei präzisem und kontrolliertem Druck. Die Substratbestrahlungsquelle sorgt dafür, dass alle Teile des Substrats gleichmäßig den Verbindungsbeiträgen ankommender Vorläufermoleküle ausgesetzt sind. Die Wachstumszone ist mit einem hochpräzisen rotierenden Waferträger ausgestattet, der durch eine sorgfältig konstruierte thermische Auskleidung auf die gewünschte Wachstumstemperatur erwärmt wird. Diese Temperatur wird dann während des gesamten Prozesses aufrechterhalten und gewährleistet eine maximale Homogenität. Auch das Substrat wird durch Doppeldichtungsausführung auf einer konstanten Temperatur gehalten. Kombiniert, diese beiden Ansätze gleichmäßig stampotron die Kristallzusammensetzung des Moleküls, Initiierung epitaktischen Wachstums. AIXTRON Crius II nutzt auch eine hochmoderne Computer-Überwachungsmaschine. Dieses Tool erfasst Daten sowohl aus der Wachstumskammer als auch aus der Steuereinheit und ermöglicht Anwendern einen Echtzeitüberblick über ihren Produktionsprozess. Diese Daten können auf die Einhaltung von Prozessparametern und auf Warnungsoperatoren bei Prozessunterbrechungen oder Ausfällen überwacht werden. Darüber hinaus können die Daten verwendet werden, um Prozessberichte zu erstellen und die gesamte Asset-Performance im Laufe der Zeit zu verfolgen. Durch die Nutzung fortschrittlicher Prozesstechnologien bietet Crius II eine außergewöhnlich zuverlässige und präzise Methode zur Herstellung von Wafern mit extrem niedrigen Fehlerquoten. Dieses Modell wurde für eine Vielzahl von Anwendungen eingesetzt, von MEMS und optoelektronischen Komponenten bis hin zu neuen Halbleiterbauelementen.