Gebraucht AIXTRON Crius II #9375373 zu verkaufen

AIXTRON Crius II ist ein flexibler CVD-Reaktor der nächsten Generation. Es ist für die Abscheidung hochwertiger Dünnschichten in einem breiten Anwendungsspektrum konzipiert. Das System ist mit einzigartigen Funktionen ausgestattet, um die Leistung von AIXTRON Digital Process Control (DPC) zur präzisen Prozesssteuerung zu integrieren und zu nutzen. Crius II Reaktor nutzt die zum Patent angemeldeten Filtersysteme und die Elektronikkombination der AIXTRON Inverse Magnetron Source Technologie zur Überwachung der Prozesstemperatur und der Abscheiderate. AIXTRON Crius II kann für die Abscheidung aller Arten von Filmen für Anwendungen wie MEMS, photonische Kristalle, III-V optoelektronische Halbleiter, Flachbildschirm und Solarzellentechnologien, unter vielen anderen verwendet werden. Der Crius II Reaktor ist mit einem IPC-System (Intelligent Process Control) ausgestattet, das von einem Controller mit neuesten Prozessüberwachungs- und Steuerungsalgorithmen betrieben wird. Dieses IPC ist mit einer einzigartigen Multi-Point-Datenerfassungsoption ausgestattet, die den vollständigen Entwicklungsstatus des Dünnfilms während des Abscheidungsprozesses überwacht. Dies führt zu hochwertigeren Folien mit verbesserter Gleichmäßigkeit, Regelbarkeit und Wiederholbarkeit. Die Steuerung kann auch zur Optimierung des Abscheideprozesses verwendet werden, wodurch die manuelle Steuerung entfällt. AIXTRON Crius II Reaktor ist in der Lage, temperatur- und druckempfindliche Abscheidungsprozesse durchzuführen und ist mit einer einzigartigen Kühlsystem-Technologie (AirFlex) ausgestattet, um eine hohe Genauigkeit und hohe Regelbarkeit von Temperatur und Druck zu gewährleisten. Crius II ermöglicht aufgrund seiner großen Vielseitigkeit wirklich ein breites Anwendungsspektrum. AIXTRON Crius II ist ein edler und fortschrittlicher Reaktor aus der AIXTRON Crius Serie von CVD-Produkten, die es zu einem führenden Anbieter von Abscheidungslösungen für industrielle Anwendungen gemacht haben. Crius II ist kompatibel mit einer Reihe von AIXTRON-Quelltechnologien wie Schottky-Zellen, Langmuir-Blodgett, Hot-wire Chemical Vapor Deposition (HW-CVD) und NanoWELL. AIXTRON Crius II ist der ultimative Reaktor für die fortgeschrittene CVD-Abscheidung. Seine Eigenschaften ermöglichen die Herstellung hochgradiger Dünnschichten mit feineren Details und schnelleren Zykluszeiten im Vergleich zu herkömmlichen Abscheideverfahren. Mit Crius II werden Anwendern Exzellenz in Bezug auf Produktivität, Qualität und erhebliche Kosteneinsparungen garantiert.