Gebraucht AIXTRON Crius II #9395952 zu verkaufen

AIXTRON Crius II ist ein Niederdruck-CVD-Reaktor, der besonders vielseitig und kostengünstig gestaltet wurde. Es richtet sich an fortgeschrittene Halbleiterbauelementehersteller, um schnell und präzise hochwertige Dünnschichten mit ausgezeichneter Gleichmäßigkeit herzustellen. Der Reaktor ist vollautomatisiert, so dass er einfach zu bedienen ist. Es nutzt ein einzigartiges Quellverteilungsnetz, das eine optimale Quellpositionierung ermöglicht und gewährleistet, dass die gesamte wachsende Oberfläche gleichermaßen mit Quellmaterialien versorgt wird. Der große Temperaturbereich macht ihn für eine Vielzahl von Anwendungen geeignet. Crius II besteht aus massiven Aluminium- und Edelstahlkomponenten, die durch Dichtungen und Lagerflächen abgedichtet sind. Dies macht es sehr zuverlässig und langlebig und hilft, Bruchprobleme zu minimieren. Es verfügt auch über aktive Wärmeüberwachung und hohe Wärmeleitfähigkeit, so dass Benutzer die vollständige Kontrolle über Temperatur und Druck haben. AIXTRON Crius II verfügt über ein automatisiertes Kammerzuführungs- und Quellenverteilsystem, das einen homogenen Massenstrom innerhalb der Reaktionskammer gewährleistet. Eine integrierte Schrupppumpe, die mit einer Membranpumpe gekoppelt ist, hilft, das Innere der Kammer sauber und frei von Partikeln und Schadstoffen zu halten. Dies ist wesentlich, um hochwertige Folien zu erhalten und Gleichmäßigkeit zu erzielen. Darüber hinaus umfasst Crius II auch einen Heißdraht-Massendurchflussregler und einen Vakuummessanschluss. Der Heißdraht-Massenstromregler ermöglicht eine präzise Messung der Reaktantenströme und eine einfachere Steuerung des Abscheideprozesses. Die Öffnung ermöglicht die schnelle Detektion von Vakuum innerhalb der Reaktionskammer. AIXTRON Crius II enthält auch mehrere Sicherheitsmerkmale wie ein Überdruckschutzsystem, eine automatische Fehlerabschaltung und ein Notevakuierungsventil. Abschließend ist Crius II ein fortschrittlicher CVD-Reaktor, der sich ideal für die Herstellung hochwertiger Dünnschichten mit Gleichmäßigkeit und ausgezeichneter Reproduzierbarkeit eignet. Seine zuverlässige und langlebige Konstruktion, automatisierte Funktionen, aktives Wärmeüberwachungssystem, robuste Sicherheitsmerkmale und der hohe Temperaturbereich machen es für fortgeschrittene Halbleitergerätehersteller umso attraktiver.