Gebraucht AIXTRON Crius II #9399247 zu verkaufen
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ID: 9399247
Wafergröße: 2"-6"
Weinlese: 2010
MOCVD System, 2"-6"
AFFINITY EWE-08AJ-ED43CAD0 Chiller
EDWARDS IXH645HLV Dry pump
ARGUS Temperature monitor
(4) Wires with ground wiring
Hydride lines: NH3-1/NH3-2/SiH4
(2) RAUDA RE235 Baths
(4) NOAH Precision baths
HORIBA MFC Type
GaN Gouve
Chamber (55"x2")
MO Source:
TMGa-1
TMGa-3
TEGa2
Cp2Mg-1
Cp2Mg-1
TMln-1
(7) TMAI-1
Missing parts:
ALCATEL / ADIXEN A100H/P Pump
ALCATEL / ADIXEN ACP 15 Pump
Heat voltage: 380 VAC, 3-Phase
Power supply: 208/120 VAC, 3-Phase
2010 vintage.
AIXTRON Crius II ist ein fortschrittlicher CVD-Reaktor, der in der Lage ist, eine Vielzahl von Materialien wie Metalle, Halbleiter, Oxide und Nitride abzuscheiden. Es wurde sowohl für die Produktion als auch für Forschungszwecke konzipiert. Crius II verfügt über einen robusten, modularen Aufbau und kann für eine Vielzahl von Prozessen und Substratgrößen konfiguriert werden. Zu den Hauptteilen des AIXTRON Crius II Reaktors gehören das mikroprozessorgesteuerte Gasmisch- und Abgabesystem, die Ultrahochvakuumkammer (UHV), der beheizte Substrathalter und die beiden Magnetrone, die das Plasma erzeugen. Das Gasfördersystem dient zum Mischen und Zuführen von Gasen in die Kammer, während die UHV-Kammer so ausgelegt ist, dass sie einen niedrigen und stabilen Druck aufrechterhält, um ein gleichmäßiges Wachstum der Materialien über das gesamte Substrat zu gewährleisten. Der Substrathalter kann auf 1.300 ° C erwärmt werden, um eine thermische Dotierung und Substratheizung für das Wachstum von Hochtemperaturdielektrika zu ermöglichen. Crius II kann Substrate mit einem Durchmesser von bis zu 4 Zoll aufnehmen und ist mit verschiedenen Ausgangsmaterialien wie metallorganischen Vorstufen und gasförmigen metallorganischen Verbindungen kompatibel. Die beiden Magnetrons erzeugen mit Gleichstrom (DC) ein Plasma hoher Dichte, das die Reaktionsgeschwindigkeit und Gleichmäßigkeit des Materialwachstums verbessert. Die Magnetrons dienen auch zur Überwachung und Steuerung der Abscheidebedingungen wie Temperatur, Druck und Plasmaleistung. AIXTRON Crius II ist mit einem leistungsstarken Softwareprogramm ausgestattet, das eine präzise Steuerung aller Verarbeitungsparameter ermöglicht, einschließlich der Substrathaltertemperatur, der Magnetronleistung und der Gaskonzentrationen. Es kann auch verwendet werden, um Selbstoptimierungszyklen zur Feinabstimmung des Wachstumsprozesses durchzuführen. Crius II Reaktor ist ein leistungsfähiges und vielseitiges Werkzeug für die Abscheidung einer Vielzahl von Materialien, von Metallen, Halbleitern und Oxiden bis zu Nitriden. Es verfügt über ein ergonomisches Design, das eine zuverlässige und konsistente Abscheidung sowie eine präzise Steuerung der Wachstumsparameter zur Optimierung des Prozesses ermöglicht. Es eignet sich sowohl für Forschung als auch für Produktionsanwendungen.
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