Gebraucht AIXTRON Crius #9184896 zu verkaufen

AIXTRON Crius ist ein von AIXTRON entwickelter und hergestellter Hochtemperatur-chemischer Dampfabscheidungsreaktor (HTCVD). Crius Reaktor ist für die Herstellung von großflächigen Dünnschichten und nanostrukturierten Geräten mit einer Vielzahl von qualitativ hochwertigen Abscheideprozessen konzipiert. Der Reaktor ist mit einer vollständig durchlässigen Quarzkammer vom Hut-Typ ausgestattet, die einen einfachen Zugang zum Substrat oder zur Probe ermöglicht. AIXTRON Crius ist ideal für Forschungs- und Entwicklungsanwendungen wie organische Leuchtdioden (OLEDs) und Dünnschichtsolarzellen. Crius ist ein zuverlässiger und effizienter Reaktor, der bei Temperaturen von bis zu 400 ° C arbeitet. Es ist mit einem AIXTRON patentierten Mehrpunkt-Zündsystem ausgestattet, das eine schnelle Inbetriebnahme und einen einfachen Reinigungs- und Wartungsvorgang ermöglicht. Der Reaktor ist auch für die Arbeit mit AIXTRON Advanced Process Control Software konzipiert, die eine schnelle und genaue Prozessparameter-Abstimmung ermöglicht. AIXTRON Crius verfügt über ein vollautomatisches Be- und Entladesystem, das es ermöglicht, Substrate innerhalb weniger Minuten in und aus der Kammer zu bewegen. Der integrierte HF-Stromgenerator macht es einfach, hohe Leistungsstufen zu liefern, um einheitliche und effiziente Ergebnisse zu erzielen. Der Crius-Reaktor wird durch eine Destillationskammer und ein Susceptometer-Gestell ergänzt, das eine schnelle Analyse der chemischen und physikalischen Eigenschaften verschiedener Materialien ermöglicht. Darüber hinaus ist der AIXTRON Crius Reaktor kompatibel mit AIXTRON fortschrittlichen Gasfördersystemen, die eine einfache und sichere Handhabung der reaktiven Gase ermöglichen. Crius verfügt über Hochgeschwindigkeitsproduktionsraten von bis zu 400 Wafern pro Stunde und ist damit die ideale Lösung für Massenproduktionen. Der Reaktor ist einfach in bestehende Produktionslinien zu integrieren, mit minimalen Rüst- und Wartungsanforderungen. Der Reaktor ist auf eine Vielzahl von Prozessanforderungen ausgelegt und kann für Abscheideprozesse auf der Basis von Silan, Siloxan und Halogenchemie eingesetzt werden. Darüber hinaus verfügt AIXTRON Crius über eine Reihe von Sicherheitsmerkmalen, darunter Gasdetektoren, Brandmelder, Überdruckschutz und isolierte Prozessgasversorgungsleitungen. Zusammenfassend ist Crius ein sehr vielseitiger HTCVD-Reaktor, der präzise und wiederholbare Ergebnisse liefert. Ausgestattet mit automatisierten Be- und Entladesystemen, Sicherheitsmerkmalen und Prozesssteuerungssoftware ist es die ideale Wahl für die großtechnische industrielle Produktion von hochwertigen Dünnschichten und nanostrukturierten Geräten.