Gebraucht AIXTRON G3 2600 #9111425 zu verkaufen

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Hersteller
AIXTRON
Modell
G3 2600
ID: 9111425
Wafergröße: 4"
MOCVD Systems, 4" LED for GaN Wafer size : 4" x 8 , 2" x 24 Heating type: RF induction heater Epi-tune: In-situ reflectance spectra MO Source: TMGa, TEGa, Cp2Mg, TMIn, TMAl Software OS: Window Gas system: Gas line: VCR type MFC: Bronhost, N2 / H2 / HCL / SiH4 / NH3 Carrier gas: H2 flow 70L/min; N2 flow 70L/min Vacuum system: Process pump: Ebara ESA25D Filter: exhaust gas filter with separate water cooling unit Pressure control: MKS651 controller, throttle valve Cooling system: Cooling liquid: Water Max. inlet pressure: < 6 bar Differential pressure: > 4 bar Inlet temperature: < 25º C Outlet temperature: < 65º C Includes: GMS Cabinet Reactor cabinet Exhaust and chamber Scrubber RF Generator Particle filter Pump 208 V, 3 Ph, 50/60 Hz Currently warehoused 2002-2007 vintages.
AIXTRON G3 2600 ist ein fortschrittlicher HWCVD-Reaktor (Hot-Wall Chemical Vapor Deposition), der für die Herstellung von Nanostrukturen und dünnen Nanokompositen entwickelt wurde. Dieser fortschrittliche CVD-Reaktor hat einen modularen Aufbau, der die Steuerung mehrerer Abscheidungsparameter ermöglicht, einschließlich Gasdurchflussraten, Druck, Temperatur und andere. Es ist auch mit einem Quarz-Prozessrohr und einem Hochleistungs-HF (Radio Frequency) -Generator ausgestattet, um eine Manipulation von Atomarten zu ermöglichen. G3 2600 ist in der Lage, Materialien bis in den Nanometermaßstab präzise abzuscheiden und kann hochwertige dünne Folien herstellen. Sein modularer Aufbau ermöglicht die Steuerung und Einstellung von Abscheidungsparametern wie Gasdurchsätzen, Druck, Temperatur und anderen, wodurch Genauigkeit und Reproduzierbarkeit gewährleistet sind. Darüber hinaus ist die Vorrichtung so ausgelegt, dass unterschiedliche Ablagerungsrezepte in ihrem Computersystem gespeichert werden können, so dass dünne Filme schnell und effizient hergestellt werden können. Darüber hinaus bietet AIXTRON G3 2600 mehrere erweiterte Funktionen, darunter das Interieur aus quarzgeschütztem Edelstahl, ein benutzerfreundliches Touchscreen-Bedienfeld, ein ergonomisches Design und reinraumkompatible Teile. Darüber hinaus verfügt G3 2600 auch über einen Hochleistungs-HF-Generator (bis 76 MHz) und ein beheiztes Quarz-Prozessrohr, die beide die präzise Steuerung der wachsenden Folien ermöglichen. Durch diesen fortschrittlichen Aufbau eignet sich der Reaktor besonders zur Abscheidung von Quantenmaterialien und Nanokompositfolien. Dank des Hochleistungs-HF-Generators können Anwender atomare und ionische Spezies innerhalb der Prozessröhre manipulieren, so dass sie die Abscheidungsrate und die Zusammensetzung ihrer Filme genau steuern können. Zusammenfassend ist AIXTRON G3 2600 ein fortschrittlicher CVD-Reaktor, der entwickelt wurde, um Nanostrukturen und dünne Nanokomposite-Folien mit Präzision und Genauigkeit herzustellen. Sein modulares Design, ergonomische Eigenschaften und fortschrittliche Funktionen wie sein HF-Generator und Quarz-Prozessrohr machen es zu einer ausgezeichneten Wahl für eine Vielzahl von Anwendungen.
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