Gebraucht AIXTRON G3 #9040737 zu verkaufen
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Verkauft
ID: 9040737
MOCVD Systems, 24x2"
No. of wafers per carrier: 24x2"
Process: GaN
Gas Configuration: NH3, H2, N2, SiH4, TMGa, TMAl, CP2Mg, TEGa, TMIn
No purifiers
Packaged and placed in a warehouse.
AIXTRON G3 ist ein Reaktivionenätzreaktor (RIE), der von AIXTRON für spezialisierte, hochpräzise Ätzanforderungen in einer Vielzahl von Branchen entwickelt wurde. Es ist voll in der Lage, sowohl trockene als auch nasse Ätzprozesse zu handhaben und ist mit verschiedenen Gasen kompatibel, die in einer Vielzahl von chemischen und physikalischen Ätzprozessen verwendet werden. AIXTRON G 3 verfügt über eine große 20 "x 20" -Kammer mit einem Abstand von bis zu 12 "Höhe und ist für die Herstellung von Ätzprofilen mit hohen Seitenverhältnissen und hoher Auflösung der Funktionen ausgelegt. Es beinhaltet ein Standardquarzglas, das mit fortschrittlicher Ätzgeometrie und hochoptimierten Prozessparametern ausgelegt ist. G3 nutzt die ICP-Quelltechnologie, um fortschrittliche Entladungs- und Plasmaätzdurchsätze zu erzeugen. Diese Technologie wird mit einer variablen Gleichstromversorgung kombiniert, um höhere Ätzraten und bessere Gleichmäßigkeit zu erzeugen. Die Kammer verfügt außerdem über eine einstellbare Rückwärtsvorspannung zur Verbesserung der Ätzselektivität und Isolierung für perfekt geätzte Strukturen mit einer minimalen Oberflächenschädigung. G 3 verfügt über einen vollständigen Satz von Prozessüberwachungs- und Steuerelementen, einschließlich Drucksteuerung, Temperatursensoren, automatisierte Spülzyklussteuerung und Ätzzeitsteuerung. Der Bordcontroller ist mit integrierten Hardware- und Softwaresteuerungen sowie einer Vakuumdurchführung für eine einfache Anbindung an externe Systeme ausgelegt. Das System verfügt außerdem über eine automatische Verstärkung, damit die Ätzrate während langer Ätzzyklen optimiert bleibt. AIXTRON G3 ist eine All-in-One-Ätzlösung, die in einer Reihe von FuE, Produktion und industriellen Umgebungen verwendet werden kann. Dieses System wurde entwickelt, um einfach zu bedienen und extrem zuverlässig zu sein, und hat sich bewährt, eine breite Palette von Materialien einschließlich Polysilizium, Siliziumoxid, Metall und anderen gängigen Materialien zu ätzen. Darüber hinaus wurde das System entwickelt, um diese Materialien sicher und effektiv mit hoher Geschwindigkeit und ausgezeichnetem Durchsatz auch bei Prozessen zu ätzen, die ein hohes Seitenverhältnis, eine hohe Auflösung oder niedrige Ätzraten erfordern.
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