Gebraucht AIXTRON G4-TM #293636228 zu verkaufen

AIXTRON G4-TM ist ein Reaktor der vierten Generation, der von AIXTRON für die industrielle Abscheidung von dünnen Filmen für Materialien wie amorphe, polykristalline und mikrokristalline dünne Filme entwickelt und hergestellt wurde. AIXTRON G 4 TM ist ein hochmoderner Reaktor mit einem einzigartigen, in situ stoppenden Leistungssensor, der die dem Ziel zugeführte Energie in Echtzeit anpasst. Dies gewährleistet eine genaue und zuverlässige Prozesskontrolle während des gesamten Abscheidungsprozesses. Der Reaktor ist für eine vielseitige und hochdurchsatzreiche Dünnschichtabscheidung auf industrieller Prozessebene ausgelegt. Es bietet eine breite Palette von Substratgrößen, Materialeinheitlichkeit und Abscheideraten sowie eine ausgezeichnete Gleichmäßigkeit der Dünnschichteigenschaften wie Zusammensetzung, optische und elektrische Eigenschaften. Die kompakte Bauweise und die hervorragende Steuerung ermöglichen eine hohe Durchsatzleistung und eine kostengünstige Abscheidung bei der Herstellung von Dünnschichtbeschichtungen. G4-TM bietet mehrere erweiterte Funktionen, die es eine ideale Wahl für Dünnschichtabscheidung machen. Dazu gehört ein Energieüberwachungssystem zur Verfolgung und Überwachung von Abscheidungsenergie, das einheitliche Dünnschichtparameter ermöglicht und Defekte wie Abschneidekanten, Peeling, Cracking und Verfärbungen verhindert. Die Verwendung von höherem Abscheidungsdruck für eine schnellere Abscheidung und verbesserte Gleichmäßigkeit. Verbesserte Automatisierung, um Arbeitskosten und Verbrauchsmaterialien zu senken und die Wartungskosten im Vergleich zu anderen Reaktoren zu senken. Der Reaktor wird mit einem Hochleistungs-HF-Generator betrieben, der speziell für G 4 TM-Abscheidungen entwickelt wurde. Dieser Generator bietet genaue und gleichmäßige Leistung für 200 bis 1.000 Watt und ermöglicht Dünnschichtabscheidungen verschiedener Materialien und Legierungen mit verschiedenen Betriebsarten. AIXTRON G4-TM bietet exzellente Prozesssteuerung, anpassbare Parameter und automatisierten Betrieb. Der in-situ Stopp-Leistungssensor ist in der Lage, die Zielleistung automatisch anzupassen, um eine genaue, zuverlässige und kostengünstige Abscheidung während des gesamten Prozesses zu gewährleisten. Seine kurze Reaktionszeit und hohe Genauigkeit gewährleisten wiederholbare Dünnschichtabscheidungsergebnisse und eine ausgezeichnete Gleichmäßigkeit, die mit anderen Abscheidungssystemen nicht erreichbar ist. Darüber hinaus ist der AIXTRON G 4 TM Reaktor flexibel und einfach in Fabriksysteme integrierbar. Es ist sowohl in Einkammer- als auch in Zweikammermodellen erhältlich, um unterschiedlichen Anwendungsbedürfnissen gerecht zu werden. Das System ist kompatibel mit verschiedenen Gasen, Materialien und Hardware für eine effizientere Abscheidung. Insgesamt ist G4-TM ein fortschrittlicher Dünnschichtabscheidungsreaktor im industriellen Maßstab, der eine verbesserte Dünnschichtgleichförmigkeit, Prozesswiederholbarkeit und Wirtschaftlichkeit bietet. Mit seinen fortschrittlichen Eigenschaften und vielseitigen Konfigurationen kann es zur Herstellung einer Vielzahl von Dünnschichtbeschichtungen verwendet werden, die höchsten Qualitätsstandards entsprechen.