Gebraucht AIXTRON G4-TM #9364578 zu verkaufen

AIXTRON G4-TM ist ein Hochvakuumreaktor, der für Anwendungen wie chemische Dampfabscheidung (CVD), Atomschichtabscheidung (ALD) oder Molekularstrahlepitaxie (MBE) entwickelt wurde. AIXTRON G 4 TM ist für optimales Wachstum von Diamant-, Oxid- und anderen Halbleitermaterialien konzipiert und basiert auf AIXTRON bewährter Hot-Wall-CVD-Technologie. Die Kammer des Reaktors ist in einer kompakten Größe von nur 1 x 0,4 Meter aufgebaut, um die Einbaufläche zu verringern. Das zweifach geteilte Rohrdesign ist in der Lage, gleichmäßige Wärme- und Leistungsverteilungen bei gleichmäßiger Einstellung des Einspritzwinkels der Abwasserreaktanten zu erzielen. Das Substrat wird von unten erwärmt und die Gasverteilung erfolgt durch ein Injektorsystem mit wechselbarem Verteiler von Injektoröffnungen am Boden der Kammer. Zur Prozesssteuerung und Benutzerfreundlichkeit von G4-TM ist es mit einer intuitiven grafischen Benutzeroberfläche ausgestattet, die virtuelle Prozesse und grafische Verfahren anzeigt. G 4 TM ist in der Lage, Diamantkristallite von bis zu 5,5 Bornitrid (BN) -Monoschichten sowie Nitridschichten der Gruppe III, einschließlich GaN, AlN und InN, herzustellen. AIXTRON G4-TM ist zudem mit einem integrierten Druckmonitor und einer Hintergrunddrucksteuerung ausgestattet. Der Druck kann auf einen Basisdruck von 5 x 10-8 mbar reduziert werden, was höhere Qualität und reproduzierbare Wachstumszyklen ermöglicht. Um die Leistung von AIXTRON G 4 TM zu maximieren, umfasst es auch zwei unabhängige Temperaturregelungen für Substrat und Injektor. Dies ermöglicht eine präzise Temperaturregelung, um die gewünschten Prozessergebnisse zu erzielen. Sicherheitstechnisch ist G4-TM hermetisch abgedichtet und entspricht den Sicherheitsstandards wie CE-Kennzeichnung, ATEX- 94/9/EC, NFС990H2 und UL Klasse 1 Division 1. Der Reaktor ist auch mit einer zündfähigen Sicherheitsatmosphäre und Überlastschutz ausgelegt, so dass er extrem sicher für Labor- und kommerzielle Anwendungen in der Nanotechnologieindustrie eingesetzt werden kann. Insgesamt ist G 4 TM ein hochzuverlässiger und fortschrittlicher CVD/ALD/MBE-Reaktor, der qualitativ hochwertige Diamant-, Oxid- und andere Halbleitermaterialien herstellen kann. Die grafische Benutzeroberfläche ermöglicht eine einfache und sichere Bedienung. Dank der integrierten Sicherheitsfunktionen ist sie ein geeignetes Werkzeug für Labor- und kommerzielle Anwendungen in der Nanotechnologieindustrie.