Gebraucht AIXTRON G4 #293652203 zu verkaufen

AIXTRON G4 ist ein gasgefüllter, linearer, kontinuierlicher, induktiv gekoppelter Reaktor Reactive Ion Etch (RIE), der für Ätz- und Abscheidungsprozesse in der Nanotechnologie und der Halbleiterherstellung verwendet wird. Es ist eine Quelle für beispiellose Leistungsstufen, Zuverlässigkeit und Prozesskontrolle. AIXTRON G 4 verfügt über ein robustes und zuverlässiges Kammerdesign mit einem innovativen Gasmanagementsystem zur Verbesserung der Gleichmäßigkeit des Gasflusses, zur Gewährleistung minimaler Auswirkungen auf das Substrat und zur Verringerung der Wartung der Kammer. Die Kammer ist mit fortschrittlichen, vollautomatischen Prozessrezepten für einen extrem breiten Abscheidungsbereich und Gleichmäßigkeit ausgestattet. Es bietet auch eine breite Palette von Prozessfähigkeiten wie reaktive Ionenätzung (RIE), Atomic Layer Deposition (ALD), Elektronenstrahlverdampfung und Sputterabscheidung. G4 ist in der Lage, qualitativ hochwertige, extrem enge Toleranzmerkmale in unter 1 Mikron zu produzieren. Die Niederdruckfähigkeit ermöglicht ein schnelleres Ätzen, während der Kammerdruck voreinstellbar ist, um optimale Ätzraten zu erreichen. Seine gleichmäßige Kühlung sorgt dafür, dass die Heizertemperatur gleichmäßig und stabil ist. Die Netzteile sind modular aufgebaut und ermöglichen eine einfachere Wartung und Aktualisierung der Ätz- und Abscheidefunktionen. Die schnellere Hochlaufgeschwindigkeit der Netzteile ermöglicht eine bessere Steuerung und Präzision der Ätz- und Abscheideprozesse. Darüber hinaus ist G 4 mit einem optischen Emissionssystem ausgestattet, das eine genaue Messung des Prozessdrucks und der Kammertemperatur ermöglicht und die Prozesssteuerung und Energieeffizienz verbessert. AIXTRON G4 ist für die klein- und großflächige Bearbeitung von Proben verschiedener Substrate konzipiert. Das System integriert auch eine breite Palette von Komponenten für Vakuum, Gas, Heizung und Plasmasteuerung. Diese leistungsstarke Kombination von Funktionen ermöglicht eine beispiellose Zuverlässigkeit und Prozesskontrolle und gewährleistet einen hohen Durchsatz und Wiederholbarkeit. Insgesamt ist AIXTRON G 4 eine ausgezeichnete Wahl für eine breite Palette von Ätz- und Abscheidungsprozessen und bietet eine verbesserte Prozesssteuerung, Gleichmäßigkeit und Durchsatz in der Halbleiter- und anderen Nanotechnologieherstellung. Es ist ein leistungsfähiges und zuverlässiges Werkzeug, um Zykluszeiten zu reduzieren und die Ätz- und Abscheideprozesse zu verbessern.