Gebraucht AIXTRON G4 #293762465 zu verkaufen

AIXTRON G4 ist ein gepulster, computergesteuerter und gasquellenbasierter Reaktor, der für die Dünnschichtabscheidung, insbesondere Oxidation und Nitridation, entwickelt wurde. Es wurde entwickelt, um die Anforderungen moderner Glassysteme mit individuellen Verarbeitungsfunktionen und einem einfach zu bedienenden Rezept-Tool zu erfüllen. AIXTRON G 4 Reaktor ist entworfen, um feinjustierte Oberflächenbehandlungen auf vielen Substraten ohne Oberflächenbeschädigung zur Verfügung zu stellen. Es verfügt über einen integrierten algorithmischen Ansatz, um einheitliche und homogene Filme aus verschiedenen dünnen Filmen zu erreichen. Der G4-Reaktor weist eine segmentierte Heizkonfiguration auf, die eine gleichmäßige Substratheizung und eine bessere Steuerung der Dünnschichtabscheidung ermöglicht. Seine neueste Konfiguration hat sechs thermische Zonen mit bis zu 630 ° C Temperaturbereich. Es enthält auch eine Steuerung mit 4 unabhängigen Stromversorgungskanälen, die eine präzise und effiziente Kühlung bei der Dünnschichtabscheidung ermöglicht. Neben seiner segmentierten thermischen Konfiguration enthält der G 4-Reaktor auch einen fortschrittlichen Algorithmus zur Verbesserung der Oberflächenhomogenität und Gleichmäßigkeit bei der Dünnschichtabscheidung. Der Algorithmus basiert auf dem Durchlaufen der substratbezogenen Parameter bei der Dünnschichtabscheidung. Es hat auch eine Musterverfolgungstechnik, die entworfen ist, um Abscheideraten genau und wiederholt zu steuern. AIXTRON G4 Reactor ist auch mit einem eingebetteten Rezept-Tool ausgestattet, das die Entwicklung von maßgeschneiderten Rezepten für die Dünnschichtabscheidung ermöglicht. Dieses Werkzeug ermöglicht die Optimierung verschiedener Dünnschichtabscheidungsparameter. Es ermöglicht auch die Erstellung von mehrstufigen Nachbehandlungsrezepten mit der Möglichkeit von unterschiedlichen Temperaturen während des Prozesses. Darüber hinaus verwendet AIXTRON G 4 Reaktor lineare Beschleunigungstechnologie (LAT), um einheitliche und homogene Filme aus verschiedenen dünnen Schichten zu liefern. Das LAT reduziert die thermische Beanspruchung in den Folien und verbessert die gesamten Abscheidungsprozesse. Sie ist ferner mit einer Pulsed Reactive-Abscheidung gekoppelt, die stationäre und gepulste Abscheidefenster für optimierten Oberflächenzugriff und Abscheideraten kombiniert. G4 Reactor ist mit einem hochmodernen Fehlerüberwachungssystem ausgestattet, das eine automatisierte Reaktion auf individuelle Raildruckbedingungen, Fehlererkennung und Reaktion auf eine Unterdrucksituation liefert. Das System ermöglicht auch eine automatisierte Abschaltung im Überdruckfall. Insgesamt ist G 4 Reactor für die Abscheidung von dünnen Schichten auf einer Vielzahl von Substraten in einer Vielzahl von Prozessen, einschließlich Oxidation, Nitridation und andere Oberflächenmodifikationsverfahren ausgelegt. Der fortschrittliche Algorithmus und die thermische Zonenkonfiguration ermöglichen nahtlose homogene dünne Filme. Das Embedded Recipe Tool ermöglicht die Entwicklung maßgeschneiderter Rezepte für dünne Filme. Schließlich sorgt sein modernstes Fehlerüberwachungssystem für maximale Sicherheit und Zuverlässigkeit.