Gebraucht AIXTRON G4 #9206743 zu verkaufen

AIXTRON G4 ist ein vertikaler CVD-Reaktor für das epitaktische Wachstum von Dünnschichtmaterialien. Ein zuverlässiger, wiederholbarer und kontrollierbarer CVD-Prozess wird durch die einzigartige, prozessoptimierungsbereite Plattform ermöglicht. Vertrauen von vielen führenden Forschungslabors und Industriezentren weltweit, liefert es höchste Präzision und liefert die beste Leistung. Der Reaktor von AIXTRON G 4 hat ein schlankes vertikales Design, das einen großen Wachstumsraum und eine optimale Temperaturbilanz an der Oberfläche ermöglicht. Die Reaktorkammer ist zur Vermeidung von Wärmestrahlung stark isoliert, wodurch eine volle und gleichmäßige Temperaturverteilung an den Substraten gewährleistet ist. Dies kann zu einem homogenen Schichtaufbau und einer verbesserten Schichtqualität führen. G4 hat eine breite Palette von Funktionen, die auf die Maximierung der Gleichmäßigkeit und Wiederholbarkeit ausgerichtet sind. Es weist beispielsweise ein raffiniertes Gasströmungssystem auf, das den gleichmäßigen Massentransport in der Abscheidekammer aufrechterhält. Es hat auch konfigurierbare Prozessparameter, wie Aufheizgeschwindigkeit und Abscheidetemperatur, die genau abgestimmt werden können. Darüber hinaus ist G 4 mit ausgezeichneter Vakuumdichtigkeit ausgestattet und gewährleistet einen sauberen und effizienten Folienwachstumsprozess. AIXTRON G4 ist auch ein leistungsfähiges Werkzeug für Forschung und Entwicklung. Es bietet die Genauigkeit und Flexibilität, die für die Änderung und Analyse von Verarbeitungsparametern wie Gaszusammensetzung, Substrattemperatur, Prozessgeschwindigkeit, Applikationsdruck und mehr erforderlich sind. Dies ermöglicht eine schnelle Abstimmung und Optimierung von Prozessen und Materialien. Dies wiederum fördert die Kreativität und trägt zur Beschleunigung der Entwicklung neuer Prozesstechnologien und Materialien bei. AIXTRON G 4 hat außergewöhnliche Abscheidungseigenschaften, die zu einer extrem gleichmäßigen und wiederholbaren Abscheidung führen können. Der gleichmäßige Schichtaufbau ermöglicht zusammen mit den einstellbaren Prozessparametern eine enorme Flexibilität in der Fertigung. Dies erleichtert die Entwicklung hochoptimierter Strukturen für ein breites Spektrum optoelektronischer, funktionaler und struktureller Eigenschaften. Insgesamt ist G4 ein leistungsstarkes, benutzerfreundliches System für einheitliche, wiederholbare und reproduzierbare CVD-Abscheidung. Seine Genauigkeit und Flexibilität, gepaart mit der Fähigkeit, Prozessparameter genau zu analysieren, macht es zu einem unschätzbaren Werkzeug für jeden Forscher oder Ingenieur, der reproduzierbare Ergebnisse erzielen möchte. Das robuste Design und die genaue Leistung von G 4 haben ihm einen Platz unter den gefragtesten CVD-Systemen der Welt eingebracht.