Gebraucht AIXTRON G4 #9222130 zu verkaufen

AIXTRON G4 ist Mitglied der G-Series Reactor-Familie von AIXTRON. Es handelt sich um einen Niederdruck-chemischen Dampfabscheidungsreaktor (LPCVD), der speziell für das Wachstum von kristallinen und Halbleitermaterialien entwickelt wurde. Dieser computergesteuerte Reaktor zeichnet sich durch ein verbessertes Design seiner Komponenten, eine höhere Leistung und einen effizienteren Betrieb aus. Es bietet eine bessere Einheitlichkeit, Wiederholbarkeit und Reproduzierbarkeit im Vergleich zu anderen Systemen, während es eine breite Palette von Wachstumsprozessen abdeckt. AIXTRON G 4 verwendet eine geschlossene Mikrowellenkammer, die die Abscheidung von metallischen und nichtmetallischen Derivaten auf verschiedenen Wafermaterialien ermöglicht. Es ist mit zwei ECR-Plasmaquellen (Elektronenzyklotronresonanz) ausgestattet, die ein einstellbares Leistungsniveau und ein breites Spektrum an Druckniveaus bieten. Die Mikrowellenausrüstung wird unabhängig voneinander gesteuert, so dass sich der Durchfluss der Gase gering, aber präzise ändert. Ein AIXTRON CleanScan II Videosystem ist ebenfalls im Lieferumfang enthalten und ermöglicht eine Echtzeit-Überwachung vor Ort. Der Reaktor trägt einen einzigen Wafer und eine Lastwechseleinheit. Diese Maschine wurde entwickelt, um die Gleichmäßigkeit und Wiederholbarkeit von Prozessen für ein- und zweiseitige Wafer zu gewährleisten. Der Beladungsmechanismus für die Wafer wird ebenfalls automatisch gesteuert und eingestellt, wodurch eine sichere und zuverlässige Umgebung für die Abscheidung gewährleistet ist. G4 ist auch mit der Einstellung der notwendigen Parameter wie Temperatur und Druck sehr effizient. Es ist in der Lage, eine präzise Steuerung zu bieten, um höhere Leistung und Gleichmäßigkeit bei präziser Zwischenschichtbildung zu erreichen. Seine Kammer wird auch mit einem Edelstahlbalg geliefert, der die Gleichmäßigkeit der Kammer mit seiner geringen mechanischen Beanspruchung verbessert und eine Überhitzung verhindert. Das Werkzeug sorgt auch für Gleichmäßigkeit bei der Möglichkeit eines wiederholbaren Musters auf einem einzigen Wafer. G 4 ist ein ideales Werkzeug für die Verarbeitung unterschiedlichster Materialien in der Halbleiter- und Mikroelektronikindustrie. Mit seinem präzisen und präzisen Betrieb ist es ideal für die Optimierung von Halbleiterbauelementen wie Silizium-Dünnschichten, Silizium-auf-Isolator-Bauelementen und Silizium.