Gebraucht AIXTRON G5 #293759860 zu verkaufen
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ID: 293759860
Wafergröße: 6"
Weinlese: 2016
System, 6"
Triple injector
Chamber / Loading cabinet
Gas mixing cabinet
RF Heater
Vacuum pump cabinet
(2) EBARA ESA80
Globe box
Antechamber
HORIBA MFCs
Maximum satellite temperature 1600°C
Epi Tune III
No transfer modules
No manual wafer Loading/Unloading
Source gas: SiH4, C3H8
Dopant gases: N2, TMAI
Process gases: H2, N2, Air, HCI, 3.8% H2 in Air
2016 vintage.
AIXTRON G5 ist ein fortschrittlicher Horizontal Reflow (HOR) Reaktor, der speziell für die Herstellung von Verbundhalbleitermaterialien entwickelt wurde. Dieser Reaktor ist in der Lage, verschiedene Abscheidungsprozesse von der Molekularstrahlepitaxie (MBE) bis zur metallorganischen chemischen Aufdampfung (MOCVD) zu handhaben. Herzstück von AIXTRON G 5 ist die einzigartige Kombination aus patentierter Isolierung, Fördertechnik und vertikaler Kaltwand. Durch die Trennung der Prozesskammer von der heißen Zone durch diese Bauelemente wird eine stabile Umgebung zur Abscheidung von Verbundhalbleitermaterialien geschaffen. Das Hauptmerkmal von G5 ist sein großes Kammerdesign, das über 2,4 m im Durchmesser misst. Dadurch erhält der Anwender den Vorteil, zahlreiche Substrate und Materialquellen gleichzeitig aufnehmen zu können, was die Prozesseffizienz maximiert. Um diese große Kammer zu verwalten, ist sie in zwei Funktionsebenen unterteilt, die in unterschiedlichen Konfigurationen für jeden spezifischen Abscheideprozess angeordnet werden können. Die obere Ebene wird für das Einbringen von Ausgangsmaterial und die untere Ebene für die Gewinnung des resultierenden Produkts verwendet. Ein weiteres Hauptmerkmal von G 5 ist sein patentiertes Isolationssystem. Diese Einheit besteht aus nichtmetallischem Material, das auf alle Innenwände der Kammer aufgebracht wird, um thermische Verluste an den Trägersystemen des Substrats zu verringern. Durch diese Isoliermaschine kann AIXTRON G5 die Arbeitstemperaturen bis zu 10x höher halten als die eines herkömmlichen Horizontalreaktors. Das fortschrittliche vertikale Kaltwandwerkzeug von AIXTRON G 5 optimiert die Umgebung der Prozesskammer weiter. Diese geniale Funktion hilft, Temperaturänderungen zwischen der Waferkassettenbearbeitung und anderen Substraten zu reduzieren und ermöglicht eine bessere Kontrolle über den gesamten Wachstumsprozess. Anpassungen des kalten Wandwinkels, der Temperatur und der Durchflussrate können manuell an alle Prozessanforderungen angepasst werden. Schließlich verfügt G5 auch über eine maßgeschneiderte Förderanlage, die die Materialhandhabung und -beladung einfacher und effizienter macht. Dieses Fördermodell ist auch vollautomatisiert und ermöglicht die Fernsteuerung des Temperaturprofils, der Gassteuerung und anderer Einstellungen des Reaktors. G 5 ist somit eine zuverlässige und leistungsstarke HOR-Reaktorausrüstung mit einem beeindruckenden Leistungsspektrum.
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