Gebraucht AIXTRON G5 #9225886 zu verkaufen

AIXTRON G5 ist ein Hochtemperatur-Poly-Silizium-Reaktor, der für die Abscheidung von Materialien auf Siliziumbasis verwendet wird. Es wird von AIXTRON, einem führenden Anbieter von Abscheidesystemen für die Halbleiter- und Elektronikindustrie, entwickelt und hergestellt. AIXTRON G 5 Reaktor ist entworfen, um einen zuverlässigen und kostengünstigen Abscheidungsprozess zu liefern. Es eignet sich zur Dünnschichtabscheidung verschiedener Materialien, darunter: Siliciumdioxid, Siliciumnitrid, Silicium-Germanium, Aluminiumoxid, katalytische Oxide und Aluminiumnitrid. G5-Reaktor verwendet einen zylindrischen Graphit-Suszeptor, in dem das Substrat platziert wird. Der Suszeptor wird dann durch zwei Infrarotlampen innerhalb des Reaktors erhitzt, wodurch eine Prozesstemperatur von bis zu 1250 ° C entsteht. Die Prozesstemperatur wird über eine PID-Temperaturregelung gesteuert, während die genaue Abscheiderate über einen bordeigenen Steuerkopf geregelt wird. Darüber hinaus verwendet ein geschlossenes Prozessleitsystem eine Mehrpunkt-Temperaturüberwachung, um eine präzise und gleichmäßige Temperaturverteilung zu gewährleisten. Dies gewährleistet eine wiederholbare Substrattemperatur in jedem Prozeßzyklus. G 5 verfügt zudem über eine Reihe von Analysewerkzeugen und eine vollautomatische Prozessabfolge. In jedem Schritt des Prozesses können zahlreiche Parameter wie Temperatur, Druck und Prozesszeit überwacht und gesteuert werden, um konsistente und wiederholbare Ergebnisse zu erzielen. Ein In-situ-Vorläufer-Dosiersystem ermöglicht eine genaue Dosierung in den Reaktor, die eine gleichmäßige und präzise Abscheidung gewährleistet. AIXTRON G5 Reaktor ist in der Lage, eine Vielzahl von Substratgrößen und Formen, darunter: kreisförmige, rechteckige, ovale oder auch unregelmäßige Polygonformen. Darüber hinaus kann es eine Abscheiderate von bis zu 7 nm/min erreichen und ist hocheffizient bei der Verwendung von Vorläufermaterial, wodurch die Abfallemission auf ein Minimum reduziert wird. Um konsistente Ergebnisse zu gewährleisten, sind verschiedene Sicherheitsvorkehrungen einschließlich sensorintegrierter Sonden vorhanden, um den Prozess zu überwachen und den Reaktor vor potenziellen Schäden zu schützen. AIXTRON G 5 Reaktor bietet eine zuverlässige und hocheffiziente Plattform für Dünnschicht-Silizium-Abscheidung. Es ist in der Lage, konsistente Ergebnisse zu liefern und eignet sich für eine Vielzahl von Anwendungen im Halbleiter- und Elektronikbereich.