Gebraucht AIXTRON Gen 3.5 #9067299 zu verkaufen
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Verkauft
ID: 9067299
Polymer Vapour Phase Deposition (PVPD) system
Dual stage load lock with independent vacuum system
Deposition chamber: Typically 0.1 mbar - 1000 mbar
Passive mask alignment accuracy: +/- 5 mm
Electro chuck for Gen 3.5 (0°-40° C)
Parylene-c pyrolyser
Gen 3.5 Shower head
Gap switch
Independent vacuum system with (2) pumps
(4) Mask capability
E-rack module
Water panel
Control display panel
Gas mixing unit
Pneumatic system
E-Racks
Control system
Safety system.
AIXTRON Gen 3.5 ist ein hochmoderner Ultrahochdruck-Epitaxiewachstumsreaktor. Der Reaktor ist für fortgeschrittene Wachstumsanwendungen wie die Herstellung neuartiger optoelektronischer und nanoelektronischer Materialien, insbesondere der in optoelektronischen Geräten und Nanoelektronik verwendeten Materialien der Gruppe III-V, konzipiert. AIXTRON Gen 3.5 ist mit einer innovativen Benutzeroberfläche „Easy-to-Use“ ausgestattet, die den Betrieb und die Wartung von bis zu drei Kammern gleichzeitig gewährleistet. AIXTRON Gen 3.5 wird von einer einzigartigen Multi-Anode UHV/DP-Reaktorquelle angetrieben. Diese leistungsstarke Quelle ermöglicht eine höhere Flexibilität und präzise Kontrolle der Materialabscheidung und ermöglicht die Herstellung hochwertiger opto-elektronischer und nanoelektronischer Materialien der Gruppe III-V. Es bietet auch die Möglichkeit, fortschrittliche epitaktische Schicht Engineering durchführen, so dass eine breitere Palette von Anwendungen. Das Reaktordesign zeichnet sich durch eine Reihe von Verbesserungen gegenüber dem Vorgänger, dem Gen 2.5, aus. Dazu gehören schnellere Abscheideraten bis 0,5 µm/min, verbesserte Homogenität durch überlegene Druckeigenschaften, minimierte Verunreinigungen bis zu erhöhter Wafereinheitlichkeit und Ausbeute sowie eine Verringerung der Prozesstemperatur auf so niedrig wie 500C. AIXTRON Gen 3.5 verfügt über eine integrierte Prozessüberwachung, die den Anwender über optimale Parameter für die detaillierte und genaue Abscheidung von Material der Gruppe III-V informiert. Das System kann auch intern die Bedingungen regeln, um eine optimale Prozesskonsistenz und Effizienz zu gewährleisten. Mit seiner höchsten Qualität und Leistungsstärke ist es ideal für die epitaktische Schichttechnik für neuartige optoelektronische und nanoelektronische Anwendungen wie Leuchtdioden (LEDs). AIXTRON Gen 3.5 ist einer der fortschrittlichsten epitaktischen Wachstumsreaktoren auf dem Markt. Seine zahlreichen innovativen Funktionen wie schnelle Abscheideraten, fortschrittliche Prozessüberwachung und Kontaminantensteuerung machen es zu einer idealen Wahl für die Herstellung fortschrittlicher optoelektronischer und nanoelektronischer Materialien. Seine hervorragende Fähigkeit zusammen mit seiner einfach zu bedienenden Benutzeroberfläche bietet Kunden eine ungleiche epitaktische Wachstumsplattform.
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