Gebraucht AIXTRON LYNX-II #9092877 zu verkaufen

AIXTRON LYNX-II ist ein fortschrittlicher Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition (PECVD) Reaktor zur Dünnschichtabscheidung. Es wird mit einer Closed Coupled Showerhead (CCS) -Architektur gebaut, die eine Vielzahl von Substraten unterstützt, darunter Silizium, Saphir, Glas und andere. Der Reaktor ist zur Abscheidung von Oxid- und Polymerfilmen ausgelegt und weist eine hohe thermische Gleichmäßigkeit auf. Seine Konfiguration ermöglicht eine Reihe von Prozessen durchgeführt werden, einschließlich Metall Organic Chemical Vapor Deposition (MOCVD), Atomic Layer Deposition (ALD), Pyrolyse, und Niederdruck Chemical Vapor Deposition (LPCVD). Der LYNX-II Reaktor weist eine Hochvakuumkammer mit hohem Plasmagasstrom auf, um eine Hochleistungsfilmabscheidung zu erreichen. Die Kammer ist mit optischen Fenstern ausgestattet, um eine einfache Überwachung des Prozesses zu ermöglichen. Der Reaktor enthält auch eine Zweizonenkammer, die es ermöglicht, auf jeder Seite unabhängige Temperaturen einzustellen. Dieses Dual-Zone-Design hilft, Kondensations- und reaktionsinduzierte Plasmaspülung (RIPP) -Probleme zu reduzieren. Das Substrat wird mit einer Robotersubstratübertragungseinrichtung, die bis zu sechs Substrate aufnehmen kann, in die Kammer geladen. Dieses System nutzt eine zweiachsige Stufe zur präzisen Steuerung der Substratposition. Der AIXTRON LYNX-II Reaktor kann mit einer Diffusionspumpe ausgestattet werden, um Plasmaprozesse mit höherem Druck zu erzeugen. Die Diffusionspumpe kann mit einem AFC® Control Unit gekoppelt werden, mit dem Prozessparameter gesteuert werden können. Die Steuerungsmaschine für den LYNX-II Reaktor ist die „AFC Control II“. Dieses Tool enthält eine Touchscreen-Schnittstelle, die es dem Benutzer ermöglicht, eine Vielzahl von Parametern wie Kammerdruck, Temperatur und Flusssteuerung zu steuern. Das Asset kann auch Alarme erzeugen, wenn ein Prozessparameter erreicht oder überschritten wird. Das AFC Control II verfügt auch über eine „Log/Record“ Funktion, die alle Prozessrezepte und Informationen speichert. AIXTRON LYNX-II Reaktor verfügt über eine hochreine „Glas-Metall“ Dichtungskonstruktion, die ein hohes Maß an Materialverträglichkeit bietet. Auf diese Weise können Materialien unterschiedlicher Materialien abgeschieden werden, darunter Metalle, Oxide, Nitride und Polymere. Die Verwendung von Edelstahl-Hardware hilft, Kontaminationen zu minimieren. Insgesamt ist LYNX-II ein leistungsfähiger und zuverlässiger PECVD-Reaktor für die Dünnschichtabscheidung. Seine CCS-Architektur ermöglicht die gleichzeitige Abscheidung einer Reihe von Materialien auf einem Substrat und sein fortschrittliches Steuerungsmodell ermöglicht eine präzise Steuerung von Prozessparametern. Der Reaktor ist ideal für eine Vielzahl von Anwendungen und ein wesentliches Werkzeug für die industrielle Dünnschichtbearbeitung.