Gebraucht AIXTRON LYNX-III #9083531 zu verkaufen

AIXTRON LYNX-III ist eine fortschrittliche plasmaverbesserte, chemische Dampfabscheidung (PECVD) -Ausrüstung, die zur Abscheidung von Halbleiterfilmen auf Wafern und anderen Substraten verwendet wird. Es handelt sich um ein Dreikammersystem auf Produktionsebene, das sowohl für das Wachsen bei erhöhten Temperaturen als auch für die In-situ-Dotierung durch die Zugabe von geladenem Gas verwendet wird. Der Reaktor verfügt über eine rotierende Waferstufe für Gleichmäßigkeit, und seine sechseckige Konstruktion ermöglicht hohe Temperaturen in einem beengten Bereich. Mit seiner Stickstoffspüleinheit bietet es eine hervorragende Abscheidungsgleichmäßigkeit mit verbesserter GaN-Abscheidungsqualität über den Zieltemperaturbereich (750 - 850 ° C). Vakuumpumpen, ein RCF sowie ein Bordplasmagenerator sorgen für effiziente Vakuumwerte für perfekte Folienqualität. Die Prozeßgasfördermaschine steuert die Konzentrationszusammensetzung und ermöglicht einen gleichzeitigen Mischvorgang. Ein fortschrittliches Gasmischwerkzeug bietet eine unübertroffene Kontrolle und Reproduzierbarkeit mehrerer Größen wie Trägergasstrom, Reagenzgasstrom und Reaktionstemperatur. Der integrierte Gasanalysator ist auch ausgestattet, um verschiedene Prozessparameter des Abscheidevorgangs zu überwachen. Der Reaktor verfügt auch über eine automatisierte Wafer Handling-Anlage, einschließlich Substratkühlung und Heizung. LYNX-III hat ein kompaktes Design für einfache Installation und Wartung. Es verwendet destillationsbasierte Vakuumtechnologie und enthält mehrere Sicherheitsfunktionen, um den Schutz des Personals vor Stromschlag, Gasaustritt und versehentlichem Verbrennen zu gewährleisten. Die geringe Rampenzeit von < 60 Sekunden sorgt für Homogenität über den Wafer, und das Modell ist in der Lage, jedes Hohlraumdesign zu unterstützen. Mehrere Fourier-Transformations- (FTIR) und Quadrupol-Massenspektrometer können installiert werden, um qualitativ hochwertige Ergebnisse zu erzielen. AIXTRON LYNX-III ist eine fortschrittliche und zuverlässige Ausrüstung, die einen stark reproduzierbaren und kontrollierbaren Abscheideprozess ermöglicht. Es ist ideal für Forschungs- und Entwicklungslabore sowie Produktionsstätten und bietet zuverlässige und kostengünstige Dünnschichtabscheidungskompetenz.