Gebraucht AIXTRON LYNX-iXP #9092600 zu verkaufen

AIXTRON LYNX-iXP
Hersteller
AIXTRON
Modell
LYNX-iXP
ID: 9092600
Wafergröße: 12"
CVD system, 12" Process: metal films SiH4-based WSi DCS-based WSi Tungsten (W) Ultra-thin WSi film 15L MKS RPC Clean (1) Brooks Transfer Module (3) Process Module AC Rack Monitor Rack.
AIXTRON LYNX-iXP ist eine fortschrittliche schlüsselfertige Plasmabearbeitungsanlage für Forschungs- und Produktionsanwendungen in der Halbleiterherstellung. Es enthält eine Hochleistungsabscheidungsquelle, die ultradünne Schichten aus Metallen und anderen Materialien mit unglaublich hohen Geschwindigkeiten mit Gleichmäßigkeit und Genauigkeit abscheiden kann. Das System ist zudem mit einer einzigartigen interaktiven Prozesskammer ausgestattet, die die Flexibilität bietet, Prozessbedingungen je nach Anwendung schnell anzupassen. Mit LYNX-iXP können Kunden ihre Prozessabläufe schneller, effizienter und kostensparender durchführen. AIXTRON LYNX-iXP ist mit einer integrierten automatischen Wafer-Handhabungseinheit ausgestattet, die eine ununterbrochene und zuverlässige Verarbeitung ermöglicht, um das Risiko einer möglichen Kontamination und Beschädigung des zu verarbeitenden Wafers zu verringern. Seine stabile, hochpräzise automatische Beladung sorgt für einen effizienten Durchsatz und eine verbesserte Ausbeute, auch im Betrieb mit größeren Wafergrößen oder Materialien mit höheren Abscheideraten. LYNX-iXP wird von einem fortschrittlichen Plasmagenerator betrieben, mit dem Benutzer ihre Abscheidungsparameter präzise und unabhängig voneinander programmieren können. Dies ermöglicht eine hohe Prozessgleichmäßigkeit von einem Verfahrensschritt zum nächsten, sei es Schichtdicke, chemische Zusammensetzung oder Oberflächentopographie. Diese Präzision macht AIXTRON LYNX-iXP auch zum idealen Werkzeug zur Abscheidung von Spezialmaterialien oder zur Abscheidung von Nanometermerkmalen. Für Sicherheit und Effizienz verfügt LYNX-iXP über eine integrierte fortschrittliche In-situ Purge Machine (IPS), die es Anwendern ermöglicht, Druck, Temperatur, Durchfluss und Mischung des Werkzeugs schnell und genau einzustellen. Dies hilft, die Qualität des Verfahrens zu erhalten und gleichzeitig Methan und andere Reaktionspartner innerhalb der Sicherheitsgrenzen zu halten. AIXTRON LYNX-iXP verfügt auch über mehrere Schnittstellenfunktionen, die die Flexibilität bieten, sich in eine Vielzahl bestehender Systeme zu integrieren und Prozessparameter und überlagerte Messungen zu kombinieren. Das selbstüberwachende Asset ermöglicht es Anwendern, Prozessbedingungen zu optimieren und gleichzeitig die Gesamtleistung kontinuierlich zu überwachen. Das Modell kann auch mit zunehmenden Anwenderanforderungen aktualisiert werden, was einen reibungslosen Übergang von der Forschung zur Produktion ermöglicht. Abschließend bietet LYNX-iXP Anwendern eine komplette schlüsselfertige Plasmabearbeitungslösung mit Präzision und Flexibilität, um den Anforderungen einer Vielzahl von Anwendungen gerecht zu werden. Durch die Kombination von fortschrittlicher Automatisierung, hochpräzisen Werkzeugen und integrierten Prozessen kann AIXTRON LYNX-iXP die Effizienz und Wirtschaftlichkeit des Produktionsprozesses verbessern.
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