Gebraucht AIXTRON LYNX-iXP #9098086 zu verkaufen

AIXTRON LYNX-iXP ist ein einzigartiger Reaktor, der speziell für die Abscheidung von halbleitenden Materialien wie Silizium, Galliumarsenid und Indiumphosphid entwickelt wurde. Der Reaktor weist eine einzigartige Struktur mit einem einzigen Wafer verstellbaren Prozessrohr auf, wodurch unterschiedliche Schichten in einem einzigen Abscheidungsvorgang abgeschieden werden können. Zusätzlich kann die Kammer verschiedene Substratgrößen auf verschiedenen Substraten, einschließlich Siliziumsubstraten, Galliumarsenid und Indiumphosphid, sowie nichtleitende Verbindungssubstrate unterstützen. Der Reaktor wurde entwickelt, um die höchste Prozessstabilität und die zuverlässigste Prozesssteuerung für einen industriellen flüchtigen und hygroskopischen Abscheidungsprozess zu gewährleisten. Dies wird durch den Einsatz fortschrittlicher Robotik und einer Mikrocomputerausrüstung zur Prozessautomatisierung und -kommunikation erreicht; ein zweistufiges Heizsystem; eine modulare Steuereinheit; Schnellantwortscanner; und eine fortgeschrittene Vakuummaschine. Mit LYNX-iXP ist ein Kammerdruck von 0,5 Torr erreichbar, der hohe Abscheideraten unter Beibehaltung der Gleichmäßigkeit über das Substrat ermöglicht. Die Kammer ist außerdem mit einem integrierten Wärmebildwerkzeug ausgestattet, das Echtzeitinformationen über die Qualität der abzuscheidenden Schichten liefert. Dieses Echtzeit-Feedback ermöglicht eine schnellere Prozessoptimierung und die Fähigkeit, das Ergebnis der Abscheidung genauer vorherzusagen. AIXTRON LYNX-iXP kann Substrate bis zu 6-in x 4-in aufnehmen und kann mit einer Vielzahl von Waferträgern verwendet werden. Der Reaktor verfügt zudem über ein eingebautes SUU-Modul (Superior Uniformity Uniformity) für die Gleichmäßigkeit der Schichtdicke und ist mit einer Reihe von Hochtemperaturprozessen kompatibel. LYNX-iXP verfügt über langfristige Zuverlässigkeit und eine ausgezeichnete Bilanz bei langem Betrieb und Waferdurchsatz. Der integrierte modulare Controller (IMC) ermöglicht es Benutzern, die Prozessparameter während der Wafer-Deposition zu steuern, sowie die Möglichkeit, auf die Betriebshistorie und die Performance des Assets zuzugreifen. Es ist einfach zu bedienen, sowie sehr zuverlässig. Insgesamt bietet AIXTRON LYNX-iXP ein präzises, zuverlässiges Abscheideverfahren für eine Vielzahl von Anwendungen und Substraten. Der Reaktor ist äußerst vielseitig einsetzbar und ermöglicht die Abscheidung verschiedener Materialien sowie eine präzise Steuerung und Überwachung des Abscheideprozesses. Seine langjährige Zuverlässigkeit und Betriebsgeschichte machen den Reaktor zu einer ausgezeichneten Wahl für eine Vielzahl von halbleitenden Abscheidungsanwendungen.