Gebraucht AIXTRON LYNX-iXP #9098087 zu verkaufen

AIXTRON LYNX-iXP
Hersteller
AIXTRON
Modell
LYNX-iXP
ID: 9098087
Wafergröße: 12"
CVD system, 12" Process: metal films SiH4-based WSi DCS-based WSi Tungsten (W) Ultra-thin WSi film 15L MKS RPC Clean (1) Brooks Transfer Module (3) Process Module AC Rack Monitor Rack.
AIXTRON LYNX-iXP ist ein hochmoderner Niederdruck-Chemikaliendampf-Reaktor (LPCVD), der den höchsten Anforderungen der Halbleiter- und MEMS-Industrie gerecht wird. Diese innovative Technologie ermöglicht die präzise, wiederholbare Herstellung von Dünnschichtbeschichtungen oder Substraten in selbst anspruchsvollsten Prozessen. LYNX-iXP ist in der Lage, große Chargen- und Einzelsubstratprozesse zu handhaben, ohne die Leistung oder Zuverlässigkeit zu beeinträchtigen. AIXTRON LYNX-iXP Reaktor bietet beispiellose Leistung in Bezug auf Gleichmäßigkeit, Stabilität und Zuverlässigkeit, alles ohne Kompromisse bei den Kosten. LYNX-iXP ist ein flexibles PVD-System, das für viele Anwendungen eingesetzt werden kann, von der Spitzenforschung bis zur reifen Produktion. Es verfügt über ein keramisch beschichtetes Quarzrohr, das bei Verwendung eines Prozessgases auf Argon-Stickstoff-Basis eine milde und gleichmäßige Substrattemperatur bietet. AIXTRON LYNX-iXP verfügt zudem über eine einstellbare Abscheidezonenlänge zur Feinabstimmung der Filmzusammensetzung. Der Reaktor verfügt über Steuerungssysteme, die eine Reihe von Rezeptoptionen bieten, einschließlich einfach zu implementierender und zykluszeitoptimierter Rezepte. Dadurch ist es einfach, schnell von einem Prozess zum anderen zu wechseln. LYNX-iXP kommt auch mit einer integrierten Quellkammer, die hilft, Metallverunreinigungen über lange Prozesszyklen zu reduzieren. Neben seinem robusten Design und der optionalen Quellkammer bietet AIXTRON LYNX-iXP eine Plattform für Entwickler, um Prozesse und Materialien für ihre eigene Entwicklung anzupassen. Der Reaktor kann mit Funktionen wie Fernplasma, Substratreinigung und Nachkühlung ausgestattet werden. So können Entwickler mit verschiedenen Materialien, Prozessrezepten und Techniken experimentieren, die zu Weiterentwicklungen in der Mikro- und Nanoelektronik führen können. LYNX-iXP ist ein effizienter, zuverlässiger und kostengünstiger LPCVD-Reaktor für die mikro- und nanoelektronische Geräteherstellung. Dieser innovative Reaktor bietet Fähigkeit, die nicht in anderen Systemen zu finden ist, einschließlich Prozessentwicklung, feinabgestufte Rezepturen und hochwertige, gleichmäßige dünne Folien. Mit seinen vielfältigen Prozessoptionen und anpassbaren Funktionen ist AIXTRON LYNX-iXP eine ideale Wahl für anspruchsvolle Anwendungen.
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