Gebraucht AIXTRON LYNX3 #9158988 zu verkaufen

AIXTRON LYNX3 ist ein High-End-III-V-Epitaxiereaktor, der für die Herstellung hochwertiger III-V-Materialien entwickelt wurde. Es basiert auf AIXTRON Industriegröße 300mm HDP-CVD und LPCVD Plattformen und bietet Substratgrößen bis 200mm Durchmesser. Seine fortschrittliche CVD-Plattform bietet Niedertemperatur-hochpräzise Hochdurchsatzprozesse, die es perfekt für Anwendungen wie die Herstellung von Verbundhalbleiterbauelementen machen. LYNX3 Reaktor ist für den Anbau von Monoschichten, Mehrschichten und Heterostrukturen mit einer Vielzahl von III-V-Materialien ausgelegt. Seine proprietäre Modulated Epitaxial Layer Deposition (MELD) Technologie ermöglicht das präzise, niedertemperaturmäßige Wachstum von Mehrkomponentenschichten wie Quantenpunkten und Quantenringen. Zu den einzigartigen Merkmalen von AIXTRON LYNX3 gehören erweiterte Waferausrichtung und Profilierung, erweiterte Temperaturregelung und erweiterte Charakterisierungsfunktionen. Der Reaktor hat einen weiten Arbeitsdruckbereich und eine erweiterte Temperaturregelung mit einer Genauigkeit von 0,01 ° C. Das fortschrittliche Wafer-Ausrichtungs- und Profilierungssystem ermöglicht eine genaue Ausrichtung der Wafer in den X-, Y- und Z-Achsen. Seine dehnbaren Charakterisierungs- und Messtechnik-Systeme können Dicken, Brechungsindizes und kristalline Struktur bestimmen. Die erweiterten SiNx-Diffusionsfenster und Ätzfenster des Reaktors ermöglichen effektive Oberflächenanisotropie und kristalline Oberflächeneigenschaften für eine höhere Geräteleistung. Seine In-Plume-Oxidationsfähigkeit ermöglicht direkte Oxidation und digitale Transportschichten mit höherer Reproduzierbarkeit und besserem Verständnis von Oxidationsparametern. Der Reaktor verfügt auch über programmierbare Verschlusssteuerung, wodurch Experimente wiederholbar sind und die Prozessoptimierung verbessert wird. LYNX3 ist auf die spezifischen Bedürfnisse der industriellen Anwender ausgerichtet und bietet ein hohes Maß an Skalierbarkeit und Flexibilität. Mit seinen fortschrittlichen Funktionen und der verbesserten Steuerbarkeit ist der Reaktor ideal für mehrschichtige Strukturen und Heteroübergänge Wachstum mit höchster Genauigkeit und Durchsatz. Die fortschrittliche CVD-Plattform sorgt für reproduzierbare und gleichmäßige polykristalline Eigenschaften zur Optimierung der Geräteleistung.