Gebraucht AIXTRON LYNX3 #9206615 zu verkaufen

AIXTRON LYNX3 ist ein fortschrittlicher CVD-Reaktor (Chemical Vapour Deposition), der zur Abscheidung von dünnen Filmen in der Mikroelektronik und in optoelektronischen Anwendungen wie Solarzellen, Mikro-LEDs, flexiblen Displays und Halbleiterspeicherbauelementen entwickelt wurde. Es bietet eine hervorragende Gleichmäßigkeit und überlegene Seitenwandabdeckung sowie eine überlegene Stufenabdeckung für komplexe Strukturen. LYNX3 verwendet eine Cold-Wall-Reaktortechnologie, die die Temperaturschwankungen in der Abscheidekammer deutlich reduziert. Diese Technologie beseitigt unerwünschte Temperaturschwankungen und sorgt für konsistente Ergebnisse. Der AIXTRON LYNX3 Reaktor ist mit einem drei Halsduschkopf ausgestattet, der für die großflächige Abscheidung von Folien mit gleichmäßiger Dicke ausgelegt ist. Es ist in einer Vielzahl von Kammergrößen von 8-Zoll bis 24-Zoll erhältlich und bietet sowohl Serien-Fähigkeiten als auch mittelgroße Forschungs- und Entwicklungsmöglichkeiten. Der Reaktor ist auch mit fortschrittlichen Sicherheitsfunktionen und mehreren Prozesssteuerungsfunktionen ausgestattet, wodurch er sich sowohl für kommerzielle als auch für Forschungsanwendungen eignet. LYNX3 ist mit einem Multi-Gas Injection System (MGIS) ausgestattet, das es Anwendern ermöglicht, die Reaktantenströme für eine optimale Prozesssteuerung genau zu steuern. Darüber hinaus ist der Reaktor mit konvergent-divergenten Düsen (CDNs) ausgestattet, die eine Gleichmäßigkeit der Folie über flache Wafer sowie auf den Seitenwänden von Objekten wie MEMS und fortgeschrittenen dielektrischen Schichten ermöglichen. Das System unterstützt auch Front Wall Injection (FWI), eine Funktion, die die Kupferabscheidung auf metallisierten Metallisierungsschichten ermöglicht. AIXTRON LYNX3 Reaktor verfügt über fortschrittliche Leistungs- und Temperaturregelungssysteme, die es Anwendern ermöglichen, Prozessparameter genau und präzise zu steuern, sowie den Abscheidungsprozess in Echtzeit zu überwachen. Die optische Probenbesichtigung ermöglicht es dem Anwender, die Qualität der Abscheidefilme zu beurteilen. Der Reaktor unterstützt auch ein Softwarepaket zur Prozessüberwachung, mit dem Anwender Prozessprobleme schnell erkennen und beheben können. Abschließend ist LYNX3 ein fortschrittlicher CVD-Reaktor, der anspruchsvolle Anforderungen und Anwendungen in der Mikroelektronik und optoelektronischen Industrie erfüllt. Es ist mit fortschrittlichen Funktionen wie dem Multi-Gas Injection System (MGIS) und Front Wall Injection (FWI) ausgestattet, die die Gleichmäßigkeit der Folie über flache Wafer sowie auf den Seitenwänden von Objekten ermöglichen. Der Reaktor verfügt auch über erweiterte Prozesssteuerungs- und Überwachungsfunktionen, so dass er eine ideale Wahl für die Produktion sowie für Forschungs- und Entwicklungszwecke ist.