Gebraucht AIXTRON Tricent #9199207 zu verkaufen
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ID: 9199207
Weinlese: 2005
CVD System
Cluster tool for wafer
Handling system: BROOKS Gemini GX6000
High-k dielectric layers
AVD System: Metallic nitride
2005 vintage.
AIXTRON Tricent ist ein von AIXTRON entwickelter Atmosphärendruck-chemischer Dampfabscheidungsreaktor (AP-CVD). Dieses Tool wurde entwickelt, um Anwendern eine zuverlässige Hochleistungsplattform für Nanomaterialien und Dünnschichtabscheidung zu bieten. Im Gegensatz zu anderen CVD-Systemen verfügt Tricent über ein fortschrittliches In-Line-Design, das die Integration in zusätzliche Prozesse oder Geräte erleichtert. Die Ausrüstung verfügt über drei Hauptkomponenten - die kalte Halterung, die heiße Halterung und die Düse -, die eine breite Palette von Prozessfähigkeiten und Gleichmäßigkeit bieten sollen. Die Kaltmontage von AIXTRON Tricent ist ein robustes und zuverlässiges Drei-Zonen-Heizsystem, das eine gleichmäßige Temperaturverteilung über das gesamte Substrat gewährleistet. Darüber hinaus verfügt die kalte Halterung auch über fortschrittliche Gaskontroll- und Spülmechanismen, die helfen, eine überlegene Temperaturregelung und Prozessstabilität zu erzielen. Die heiße Halterung von Tricent verfügt über ein fortschrittliches Arc-Plug-Design, mit dem Benutzer Materialien mit dem höchstmöglichen Seitenverhältnis ablegen können. Darüber hinaus verfügt die Heißlagerung über eine optimierte Gasversorgungseinheit, die während des gesamten Verarbeitungszyklus den optimalen Gasstrom gewährleistet. Diese Maschine wurde entwickelt, um eine homogene Struktur und perfekte Haftung der abgeschiedenen Schichten zu bieten. Um eine gleichmäßige Dünnschichtabscheidung zu gewährleisten, ist AIXTRON Tricent mit einer hochpräzisen Düse ausgestattet. Diese Düse ist für den Langzeitbetrieb ausgelegt und sorgt für eine stabile und reproduzierbare Materialemission. Darüber hinaus ist die Düse in der Lage, Tröpfchen einer präzisen Größe und einer definierten Geschwindigkeit zu erzeugen, was eine gleichmäßige Filmabscheidung auf dem Substrat gewährleistet. Insgesamt ist Tricent eine unglaublich leistungsstarke und vielseitige Plattform zur Abscheidung von Nanomaterialien und dünnen Filmen. Es ist in der Lage, gleichmäßig dicke und hochwertige Schichten mit ausgezeichneter Haftung und Präzision herzustellen. Das fortschrittliche In-Line-Design macht es zudem einfach, sich mit zusätzlichen Prozessen und Anlagen zu integrieren.
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