Gebraucht AIXTRON Tricent #9396754 zu verkaufen

AIXTRON Tricent ist ein Dreielektroden-Chemikaliendampfreaktor (CVD), der speziell für die Abscheidung von nitridbasierten Materialien entwickelt wurde. Tricent wurde entwickelt, um Nitridschichten durch Zersetzung von flüchtigen Metall-Nitrid-Verbindungen wie Aluminiumnitrid, Galliumnitrid und Indiumgalliumnitrid abzuscheiden. Es verwendet ein planares HF/DC-gesteuertes Verfahren, bei dem zwei Elektroden zur Erzeugung des Plasmas verwendet werden, und eine Hilfselektrode zur Steuerung der DC-Vorspannung. Diese Konfiguration verbessert die Prozessleistung aufgrund der höheren Plasmaproduktion, da die DC-Vorspannung eine schnellere Thermalisierung ermöglicht, was zu höheren Abscheidungsraten führt. AIXTRON Tricent kann unter verschiedenen Nitrid-Prozessgasen arbeiten, einschließlich NH3, GeH4 und Silan. Dieser Reaktor ist in der Lage, unter Berücksichtigung seiner kleinformatigen Reaktorauslegung hohe Abscheidungsraten zu erzielen. Es hat eine sehr schnelle Abscheiderate Schaltfähigkeit, so dass es ideal für Anwendungen, die schnelles Schalten von Prozessgasen und/oder Substrattemperatur, wie zum Beispiel für die Abscheidung von dicken Schichten beinhalten. Tricent bietet auch on-the-fly Substrat Temperatur und Gasregelung, so dass es möglich ist, den Prozess während des Laufs zu überwachen und zu optimieren. AIXTRON Tricent nutzt automatisierte Prozessoptimierungsfunktionen, die es Anwendern ermöglichen, Prozessparameter schnell abzustimmen. Dies erleichtert den Anwendern den Reaktorbetrieb und minimiert Ausfallzeiten im Umgang mit neuen Materialsystemen oder -prozessen. Darüber hinaus profitieren Anwender von fortschrittlichen intelligenten Prozesssteuerungssystemen, die Feedback-Schleifen und Diagnosen verwenden, um den Prozess zu überwachen und konsistente Ablagerungsraten beizubehalten. Schließlich hat Tricent ein Edelstahlgehäuse, das leicht gewartet und gereinigt werden kann. Das Innere des Reaktors mündet in alle nicht vom Substrat eingenommenen Oberflächen und unterdrückt die Abscheidung auf Flächen, die den Reaktanden nicht absichtlich ausgesetzt sind. Das Ergebnis ist eine verbesserte Oberflächenqualität und höhere Abscheideraten sowie erhöhte Zuverlässigkeit und Reproduzierbarkeit.