Gebraucht AIXTRON TS 19x2" #9386610 zu verkaufen

AIXTRON TS 19x2"
Hersteller
AIXTRON
Modell
TS 19x2"
ID: 9386610
Weinlese: 2008
MOCVD Systems 2008 vintage.
AIXTRON TS 19x2 ist eine High-Temperature Chemical Vapor Deposition (CVD) Ausrüstung, die für die Herstellung von verschiedenen Arten von Materialien, wie Folien oder Beschichtungen in der Halbleiterindustrie verwendet wird. Dieses System ist mit einem Warmwandrohrreaktor mit einem gekühlten Substrathalter und vier beheizten Gasinjektoren mit einstellbaren Temperatureinstellungen ausgestattet. AIXTRON TS 19x2 ist eine zuverlässige und effiziente Einheit, die eine präzise Kontrolle der Umgebung ermöglicht, in der Materialien hergestellt werden. Es bietet bis zu 18 unabhängig voneinander einstellbare Temperaturzonen, wodurch eine homogene Temperaturverteilung innerhalb des Reaktors und präzisere Ergebnisse erzielt werden können. AIXTRON TS 19x2 enthält auch eine vollständig geschlossene Prozesskammer, die bis zu 10-3 Torr druckgespannt werden kann. Dies hilft, die Menge der während der Abscheidung von Materialien entweichenden Prozessgase zu begrenzen. AIXTRON TS 19x2 hat eine einstellbare Drehzahl, die eine hochwertige, gleichmäßige und homogene Folienschicht erzeugt. Es hat auch einen hohen Durchsatz bei geringerem Energieverbrauch, was es zu einer kostengünstigeren Alternative zu herkömmlichen CVD-Systemen macht. Zusätzlich kann diese Maschine angepasst werden, um verschiedene Größen von Substraten unterzubringen, so dass sie für eine Vielzahl von Anwendungen geeignet ist. AIXTRON TS 19x2 ist ein vielseitiges Werkzeug, das für eine Vielzahl von Verfahren wie diamantartige Kohlenstoffabscheidung, Mehrschichtbeschichtungen und Dünnschichtabscheidung eingesetzt werden kann. Es bietet eine präzise Steuerung der Prozessbedingungen und eine gleichmäßige Abscheidung unter Verwendung einer einheitlichen Vorläufergasverteilung, wodurch es für verschiedene industrielle Anwendungen geeignet ist. Insgesamt ist AIXTRON TS 19x2 ein zuverlässiges CVD-Asset, das sich für eine Vielzahl von Prozessen eignet. Es bietet einen hohen Durchsatz, einstellbare Temperatureinstellungen und eine druckdichte Prozesskammer, so dass es ein effizientes Modell für eine Reihe von Anwendungen.
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