Gebraucht AIXTRON TS CCSH19*2" #9167079 zu verkaufen

AIXTRON TS CCSH19 * 2 ist ein CVD-Reaktor (High Temperature Chemical Vapor Deposition) zur Herstellung von qualitativ hochwertigen Dünnschichtablagerungen und epitaktischen Schichten. Es wird hauptsächlich für das Wachstum von Verbundhalbleitermaterialien verwendet und umfasst ein innovatives Merkmal: eine vertikal einstellbare Substratgeometrie. Dies ermöglicht eine größere Bandbreite an Wachstumsgeometrien als andere CVD-Reaktoren und kann auch Substratgrößen bis zu zwei Zoll Durchmesser aufnehmen. Die Hauptkammer von AIXTRON TS CCSH19 * 2 besteht aus Edelstahlkomponenten und ist zur Optimierung der Prozessausbeute ausgelegt. Es enthält eine doppelwandige elektronenstrahlgeschweißte Übergangskammer und ein Molybdänboot für das Ausgangsmaterial, wodurch gewährleistet ist, dass außerhalb der Hauptkammer keine Partikel aus dem Beschichtungsprozess freigesetzt werden. Die Hauptkammer ist auch zum Schutz vor Rückreflexion aus dem Zielmaterial ausgebildet. Die Kammer verfügt auch über eine Temperaturregelung für das Substrat bis zu einem effektiven Bereich von + 2000C, und Pyrometer-Rückkopplung für erhöhte Prozesskonsistenz. AIXTRON TS CCSH19 * 2 Reaktor verfügt auch über ein patentiertes Quellverschlussschutzsystem, das das Quellmaterial auch bei reaktiven Abscheidungsereignissen in schützendem Kontakt mit dem Substrat hält. Dies hilft, die Konsistenz über den Abscheidungsprozess zu gewährleisten und schützt das Ausgangsmaterial vor vorzeitiger Oxidation oder Desaktivierung. Der AIXTRON TS CCSH19 * 2 Reaktor ist mit Ein- und Auslassöffnungen ausgestattet, einschließlich Gasleitungen, Vakuumleitungen und Massenstromreglern. Dies ermöglicht eine präzise Steuerung von Quellgasen und möglichen Dotierstoffen und die Massenstromregler ermöglichen eine vollständige Kontrolle der Abscheiderate. AIXTRON TS CCSH19 * 2 enthält auch eine programmierbare Prozesssteuerung, die eine präzise Steuerung von Abscheidetemperatur, Druck und Durchflussraten ermöglicht. Diese Merkmale gewährleisten eine präzise Kontrolle des Abscheideprozesses und konsistente und wiederholbare Ergebnisse. Darüber hinaus umfasst der AIXTRON TS CCSH19 * 2 Reaktor eine Reihe integrierter Sicherheitsmerkmale, die einen Drucksensor, einen Temperatursensor und einen Prozess-End-Stop-Timer umfassen. So bleibt der Betrieb auch bei längsten Prozessen sicher und konsistent. Alle Steuerungen sind zur einfachen Überwachung und Optimierung des Prozesses in das System integriert. AIXTRON TS CCSH19 * 2 Reaktor ist ein zuverlässiger, einfach zu bedienender und effizienter CVD-Reaktor für hochwertige Dünnschichtabscheidung. Es bietet eine breite Palette von Substratgrößen und Geometrien und ermöglicht die präzise Steuerung von Abscheidungsparametern. Es hat auch eine Vielzahl von Sicherheitsmerkmalen, um einen sicheren und konsistenten Betrieb zu gewährleisten. All diese Eigenschaften machen es zu einer idealen Wahl für die Herstellung von hochwertigen Dünnschichtschichten und epitaktischen Strukturen.