Gebraucht AIXTRON TS CCSH30x2" #9386936 zu verkaufen

AIXTRON TS CCSH30x2 ist ein häufig verwendeter Chargenreaktor, ideal für die Abscheidung von dünnen Filmen. Es ist in der Lage, Schichten mit unterschiedlichen Dicken, mit ausgezeichneter Gleichmäßigkeit und kontrollierte Profilform abzuscheiden. Dieser Reaktor eignet sich auch für verschiedene Anwendungen, von Sputterabscheidung bis ALD (Atomic layer deposition). Der Aufbau des Reaktors umfasst eine HF-Magnetronquelle aus einer Hand, einen Antireflexionssubstrathalter (AR) und eine Multikathode. Die Kammertemperatur kann für jeden Wafer in einem Bereich von Raumtemperatur bis über 500 ° C unabhängig geregelt werden. Die Prozesstemperatur kann durch die HF-Quelle genau geregelt werden und deckt eine Vielzahl beliebiger Arbeitspunkte ab. Die Konzentration des Magnetfeldes innerhalb der Kammer ermöglicht die Abscheidung von Heterostrukturen auch bei niedrigen Temperaturen. Der Waferhalter ist sowohl für planare als auch für drahtgebundene Substrate ausgelegt, und die Höhe der Quelle kann an unterschiedliche Substrathalter angepasst werden. Der Reaktor ist außerdem mit einem automatisierten Vorkonfigurationssystem ausgestattet, das bei benutzerdefinierten Parametern Prozessbedingungen einstellen kann, einschließlich Druck, Temperatur, Vorspannung und Turbomolekularpumpendrehzahl. AIXTRON TS CCSH30x2 ist ein zuverlässiger und effizienter Chargenreaktor, der Schichten unterschiedlicher Dicke abscheiden kann. Sein Design ermöglicht eine ausgezeichnete Gleichmäßigkeit und eine kontrollierte Profilform mit flexiblen Prozessbedingungen und einem breiten Temperaturbereich. Der Reaktor ist mit einem automatisierten Vorkonfigurationssystem für die schnelle und einfache Einrichtung von Prozessparametern ausgestattet, und die HF-Magnetronquelle aus einer Hand bietet maximale Flexibilität für die Abscheidung von Heterostrukturen. Insgesamt ist AIXTRON TS CCSH30x2 eine ideale Wahl für eine Vielzahl von Anwendungen, von Sputterabscheidung bis ALD.