Gebraucht AIXTRON TS CCSH31x2" #9386931 zu verkaufen

AIXTRON TS CCSH31x2 Reaktor ist ein Mehrkammer-Plasma-Abscheidungssystem für funktionelle Metalloxid (FMO) und dielektrische Oxid-basierte Materialien Abscheidung entwickelt. Es nutzt eine fortschrittliche entfernte Plasmaquelle für das Wachstum von hoher Qualität und präzisen Filmdicken. Darüber hinaus ist das System in der Lage, sowohl chargenweise als auch inline-Prozesse zu betreiben. AIXTRON TS CCSH31x2 verfügt über eine integrierte Single Zone Electron Cyclotron Resonance (ECR) Plasmaquelle. Diese ECR-Plasmaquelle kann verwendet werden, um die Abscheidung zu optimieren, indem eine niedrige energetische Abscheidung mit einer genauen Steuerung der Energie und des Flusses von Partikeln auf dem Substratbereich ermöglicht wird. Die ECR-Quelle besteht ferner aus einem Mikrowellengenerator und einer externen Magnetfeldspule, die für ein homogenes und gleichmäßiges Plasma sorgen. AIXTRON TS CCSH31x2 Reaktor verwendet eine Helicon-Spule zur Beschleunigung und Aufrechterhaltung des Plasmas. Der Reaktor ermöglicht auch eine schnelle, präzise und wiederholbare Schichtabscheidung durch Substratdrehung und Sockelbewegung. Darüber hinaus ermöglicht das Turmdesign von AIXTRON TS CCSH31x2 bis zu vier Substratbeladungsreihen und zwei Ablagekammern. Dies ermöglicht große Oberflächenbehandlungen verschiedener Substrate und häufigen Substratwechsel. AIXTRON TS CCSH31x2 Reaktor verfügt über erweiterte Prozesssteuerungs- und Überwachungsfunktionen. Es ist mit Feedback-Systemen ausgestattet, um die beste Prozessreproduzierbarkeit und Präzision zu gewährleisten. Es ist zur Rückkopplung von Substrattemperatur, Abscheiderate und Gasdruck ausgebildet. Dies dient der Genauigkeit und Präzision bei der Schichtabscheidung, die im industriellen Verfahren erforderlich ist. Außerdem verfügt der AIXTRON TS CCSH31x2 Reaktor über eine eingebaute Sicherheitssperre, die die Kammer beim Einspritzen eines Inertgases während des Ätzvorgangs automatisch abschaltet. AIXTRON TS CCSH31x2 Reaktor ist für die Arbeit in einer breiten Palette von typisch verwendeten Prozessgasen wie Sauerstoff, Stickstoff und Argon konzipiert. Darüber hinaus eignet es sich zur Funktionalisierung der Oberfläche und Abscheidung komplexer Metalloxide, wie Indiumzinnoxid (ITO) oder Zinkoxid (ZnO). Insgesamt ist AIXTRON TS CCSH31x2 ein Mehrkammer-Plasmaabscheidungssystem, das für die Abscheidung von Materialien auf der Basis von funktionellem Metalloxid (FMO) und dielektrischem Oxid entwickelt wurde. Es ermöglicht eine präzise und homogene Plasmaabscheidung mit Prozesssteuerungs- und Überwachungsfunktionen. Es eignet sich gut zur Funktionalisierung von Oberflächen und zur Abscheidung komplexer Metalloxide.